溶液中におけるSi(111)表面の原子レベルでの平坦化過程の解明と表面構造制御
溶液中におけるSi(111)表面の原子レベルでの平坦化過程の解明と表面構造制御
溶液中Si(111)表面原子级平坦化过程的阐明及表面结构的控制
批准号：
00J01457
负责人：
吹留 博一
金额：
$0.77万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2000
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2000 至 --
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会议论文
グラフェン技術を用いた次世代巨大磁気抵抗スピントロニクスデバイスの開発
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批准号：14F04357
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项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额：$1.47万
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财政年份：2014
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负责人：吹留 博一
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依托单位：