非接触評価に基づくシリコン表面および極薄絶縁膜/シリコン界面の制御と応用
非接触評価に基づくシリコン表面および極薄絶縁膜/シリコン界面の制御と応用
基于非接触评估的硅表面及超薄绝缘膜/硅界面控制及应用
批准号：
00J06818
负责人：
吉田 俊幸
金额：
$0.64万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2000
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2000 至 --
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会议论文
Formation of sprayed semiconducting nano-particle layers and their device applications
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批准号：20K05327
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.75万
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财政年份：2020
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负责人：吉田 俊幸
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依托单位：