Elektronische Anregungs- und Emissionsprozesse bei streifender Streuung schneller Atome/Ionen an Oberflächen
表面上快速原子/离子的掠射散射的电子激发和发射过程
基本信息
- 批准号:5305172
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Research Grants
- 财政年份:2001
- 资助国家:德国
- 起止时间:2000-12-31 至 2006-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Die geplanten Vorhaben setzen die bisherigen Untersuchungen zur streifenden Streuung schneller Atome und Ionen an EinkristallOberflächen fort, die durch die DFG im Rahmen der Projekte Wi 1336/1-1 und Wi 1336/1-2 gefördert wurden und aktuell im Projekt Wi 1336/1-3 bearbeitet werden. Studien zu elektronischen Anregungsprozessen sowie vor allem zur Elektronenemission, die durch den Projektilbeschuss von Metall- und Isolatoroberflächen induziert werden, sollen im Mittelpunkt stehen. Dabei spielen die definierten Trajektorien bei streifender Streuung eine entscheidende Rolle. Mit diversen - zum Teil neuen - Koinzidenzmethoden soll die Elektronenemission bei Beschuss mit atomaren Projektilen in bisher nicht erreichter Genauigkeit und nicht zugänglichen Details untersucht und aufgeklärt werden.
Die geplanten Vorhaben setzen die bisherigen Untersuchungen zur streifenden Streuung schneller Atome und Ionen an EinkristallOberflächen fort,die durch die DFG im Rahmen der Projekte Wi 1336/1-1 and Wi 1336/1-2 gefördert wurden and aktuell im Projekt Wi 1336/1-3 bearbeitet韦尔登.在电子工程中,通过金属和绝缘体的工程施工,韦尔登和绝缘体的工程施工,可以在中小企业中得到很好的解决。大贝将定义的Trajektorien与streifender Streuung一个新的角色。Mit diversen - zum Teil neuen - Koinzidenzmethoden soll die Elektronemission bei Beschuss mit atomaren Projektilen in bisher nicht erreichter Genauigkeit und nicht zugänglichen Details untersucht und aufgeklärt韦尔登.
项目成果
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专著数量(0)
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