Research on Optical Wave Control Devices using A Fluorinated Silicon Oxide Thin-Films Formed by Selective Liquid Phase Deposition

选择性液相沉积氟化硅薄膜光波控制器件的研究

• 批准号: 13650384
• 负责人: HOMMMA Tetsuya
• 金额: $ 0.9万
• 依托单位: Shibaura Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2001
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2001 至 2003
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-13650384/
• 关键词: Thin-Film Optical Waveguide; Fluorinated Silicon Oxide (SiOF); Liquid Phase Deposition (LPD) Technique; Spin-on Glass (SOG); Thermo-Optical Device; Thermal Coefficient of Refractive Index; Extinction Ratio; Half-Wave Power; 有機スピンオングラス(SOG); リブ型導波

The transmission loss of thin-film optical waveguides using liquid-phase deposited (LPD) fluorinated silicon oxide (SiOF) core-layer and organic spin-on glass (SOG) cladding-layer was 2〜9 dB/cm at 532〜834 nm wavelengths. The thermo-optical devices with this waveguide show switching time 2.4 msec, extinction ratio 16 dB and half-wave power 2.78W.

采用液相沉积（LPD）氟化氧化硅（SiOF）芯层和有机自旋玻璃（SOG）包层制备的薄膜光波导在532 ~ 834 nm波长处的传输损耗为2 ~ 9 dB/cm。采用该波导的热光器件的开关时间为2.4 msec，消光比为16 dB，半波功率为2.78W。

项目成果

H.Kondo, K.Inohara, Y.Taniguchi, J.Nakahata, T.Homma, H.Takahashi: "Thermo-optic Switch using Fluorinated Silicon Oxide and Organic Spin-on-Glass Films"Optical Review Letter. Vol.8,No.5. 323-325 (2001)

H.Kondo、K.Inohara、Y.Taniguchi、J.Nakahata、T.Homma、H.Takahashi：“使用氟化二氧化硅和有机旋涂玻璃薄膜的热光开关”光学评论信。

K.Kurosu, Y.Taniguchi, M.Horie, F.Maruyama, T.Homma, H.Takahashi: "Evaluation of Tri-layer Structure Thin-film Optical Waveguides using LPD-SiOF Films"Extended Abstract of The 63rd Autumn Meeting The Japan Society of Applied Physics. No.3. 857 (2002)

K.Kurosu、Y.Taniguchi、M.Horie、F.Maruyama、T.Homma、H.Takahashi：“使用 LPD-SiOF 薄膜的三层结构薄膜光波导的评估”第 63 届秋季会议的扩展摘要

M.Horie, M.Nomoto, K.Inohara, T.Homma, H.Takahashi, M.Saito, F.Terai: "Evaluation of Thin-Film Optical Waveguids Using Fluorinated Silicon Oxide Films by Grating-Coupling Method"Extended Abstract of The 62nd Autumn Meeting The Japan Society of Applied Phy

M.Horie、M.Nomoto、K.Inohara、T.Homma、H.Takahashi、M.Saito、F.Terai：“通过光栅耦合法评估使用氟化硅氧化物薄膜的薄膜光波导”扩展摘要

丸山史和, 堀江正樹, 谷口祐樹, 黒須賢治, 本間哲哉, 高橋英郎: "LPD-SiOF薄膜光導波路の伝送損失の波長依存性"第63回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 858 (2002)

Fumikazu Maruyama、Masaki Horie、Yuki Taniguchi、Kenji Kurosu、Tetsuya Honma、Hideo Takahashi：“LPD-SiOF 薄膜光波导中传输损耗的波长依赖性”第 63 届日本应用物理学会年会论文集（2002 年）。 ) )

黒須賢治, 谷口祐樹, 堀江正樹, 丸山史和, 本間哲哉, 高橋英郎: "液相成長フッ素添加酸化シリコン薄膜を用いた3層構造薄膜光導波路の評価"第63回応用物理学会学術講演会講演予稿集. No.3. 857 (2002)

Kenji Kurosu、Yuki Taniguchi、Masaki Horie、Fumikazu Maruyama、Tetsuya Honma、Hideo Takahashi：“使用液相生长的氟掺杂氧化硅薄膜评估三层薄膜光波导”在第 63 届日本年会上的演讲应用物理学会刊第 3 号（2002 年）。