Research on Optical Wave Control Devices using A Fluorinated Silicon Oxide Thin-Films Formed by Selective Liquid Phase Deposition
Research on Optical Wave Control Devices using A Fluorinated Silicon Oxide Thin-Films Formed by Selective Liquid Phase Deposition
选择性液相沉积氟化硅薄膜光波控制器件的研究
批准号：
13650384
负责人：
HOMMMA Tetsuya
金额：
$0.9万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2001
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2001 至 2003
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英文摘要
The transmission loss of thin-film optical waveguides using liquid-phase deposited (LPD) fluorinated silicon oxide (SiOF) core-layer and organic spin-on glass (SOG) cladding-layer was 2〜9 dB/cm at 532〜834 nm wavelengths. The thermo-optical devices with this waveguide show switching time 2.4 msec, extinction ratio 16 dB and half-wave power 2.78W.
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H.Kondo, K.Inohara, Y.Taniguchi, J.Nakahata, T.Homma, H.Takahashi: "Thermo-optic Switch using Fluorinated Silicon Oxide and Organic Spin-on-Glass Films"Optical Review Letter. Vol.8,No.5. 323-325 (2001)
H.Kondo、K.Inohara、Y.Taniguchi、J.Nakahata、T.Homma、H.Takahashi：“使用氟化二氧化硅和有机旋涂玻璃薄膜的热光开关”光学评论信。
H.Kondo、K.Inohara、Y.Taniguchi、J.Nakahata、T.Homma、H.Takahashi：“使用氟化二氧化硅和有机旋涂玻璃薄膜的热光开关”光学评论信。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
K.Kurosu, Y.Taniguchi, M.Horie, F.Maruyama, T.Homma, H.Takahashi: "Evaluation of Tri-layer Structure Thin-film Optical Waveguides using LPD-SiOF Films"Extended Abstract of The 63rd Autumn Meeting The Japan Society of Applied Physics. No.3. 857 (2002)
K.Kurosu、Y.Taniguchi、M.Horie、F.Maruyama、T.Homma、H.Takahashi：“使用 LPD-SiOF 薄膜的三层结构薄膜光波导的评估”第 63 届秋季会议的扩展摘要
K.Kurosu、Y.Taniguchi、M.Horie、F.Maruyama、T.Homma、H.Takahashi：“使用 LPD-SiOF 薄膜的三层结构薄膜光波导的评估”第 63 届秋季会议的扩展摘要
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
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作者：
[]
通讯作者：
M.Horie, M.Nomoto, K.Inohara, T.Homma, H.Takahashi, M.Saito, F.Terai: "Evaluation of Thin-Film Optical Waveguids Using Fluorinated Silicon Oxide Films by Grating-Coupling Method"Extended Abstract of The 62nd Autumn Meeting The Japan Society of Applied Phy
M.Horie、M.Nomoto、K.Inohara、T.Homma、H.Takahashi、M.Saito、F.Terai：“通过光栅耦合法评估使用氟化硅氧化物薄膜的薄膜光波导”扩展摘要
M.Horie、M.Nomoto、K.Inohara、T.Homma、H.Takahashi、M.Saito、F.Terai：“通过光栅耦合法评估使用氟化硅氧化物薄膜的薄膜光波导”扩展摘要
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
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作者：
[]
通讯作者：
丸山史和, 堀江正樹, 谷口祐樹, 黒須賢治, 本間哲哉, 高橋英郎: "LPD-SiOF薄膜光導波路の伝送損失の波長依存性"第63回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 858 (2002)
Fumikazu Maruyama、Masaki Horie、Yuki Taniguchi、Kenji Kurosu、Tetsuya Honma、Hideo Takahashi：“LPD-SiOF 薄膜光波导中传输损耗的波长依赖性”第 63 届日本应用物理学会年会论文集（2002 年）。 ) )
Fumikazu Maruyama、Masaki Horie、Yuki Taniguchi、Kenji Kurosu、Tetsuya Honma、Hideo Takahashi：“LPD-SiOF 薄膜光波导中传输损耗的波长依赖性”第 63 届日本应用物理学会年会论文集（2002 年）。 ) )
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
黒須賢治, 谷口祐樹, 堀江正樹, 丸山史和, 本間哲哉, 高橋英郎: "液相成長フッ素添加酸化シリコン薄膜を用いた3層構造薄膜光導波路の評価"第63回応用物理学会学術講演会講演予稿集. No.3. 857 (2002)
Kenji Kurosu、Yuki Taniguchi、Masaki Horie、Fumikazu Maruyama、Tetsuya Honma、Hideo Takahashi：“使用液相生长的氟掺杂氧化硅薄膜评估三层薄膜光波导”在第 63 届日本年会上的演讲应用物理学会刊第 3 号（2002 年）。
Kenji Kurosu、Yuki Taniguchi、Masaki Horie、Fumikazu Maruyama、Tetsuya Honma、Hideo Takahashi：“使用液相生长的氟掺杂氧化硅薄膜评估三层薄膜光波导”在第 63 届日本年会上的演讲应用物理学会刊第 3 号（2002 年）。
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
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作者：
[]
通讯作者：
共 22 条
Recycle of Silica Glass from Waste Silicate Glass/Hydrofluoric Acid, and Mechanism of Removing Metallic Icons from Silicate Glasses
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批准号：16510066
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.11万
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财政年份：2004
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负责人：HOMMMA Tetsuya
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依托单位：