YAG高調波による透明体電極の環境調和型高効率作製法

YAG谐波透明电极的环保高效制造方法

• 批准号: 14750089
• 负责人: 岡本 康寛
• 金额: $ 2.18万
• 依托单位: Okayama University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2002
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2002 至 2004
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14750089/
• 关键词: レーザ加工; 透明体電極; ITO膜; ドライプロセス; QスイッチYAGレーザ; YAG高調波; 吸収率

YAG高調波レーザを用いた透明体電極作製法について,レーザ光波長が加工特性に与える影響を検討するともに,その可能性を検討して以下のような所見が得られた.1.Nd : YAGレーザの基本波(λ1064nm),第2高調波(λ532nm),第3高調波(λ355nm)および第4高調波(λ波長266nm)をITO膜に照射したところ,第3および第4高調波レーザでは,光子エネルギーが大きく,基板であるガラスの吸収率も大きいことから,加工部の起伏が激しく良好な加工面を得ることができなかった.また,基本波ではガラスへ熱衝撃と思われるクラックが残存した.一方,第2高調波はガラス基板の透過率が高いことから,基板であるガラス材料へのダメージがほとんどなく,ITO膜のみを除去することが可能であった.そこで,以下では第2高調波レーザを用いて実験を行い,以下のような所見を得た.2.一定の平均出力で良好な加工溝形状を得るには,ディフォーカス距離とステージ送り速度を精密に制御する必要があった.3.ITO膜,ガラス基板の順にレーザ光を照射する表面照射法でディフォーカス量が大きい場合,加工溝中央にITO膜の未除去部分が存在するが,ガラス基板,ITO膜と逆の順にレーザ光を照射する裏面照射法を用いることで,その発生を抑制できた.4.第2高調波を用いた場合,裏面照射法の場合,溝周囲には盛り上がりが発生するが,適切な条件を選択することによりその発生を防ぐことができた.以上のように,Nd : YAG第2高調波レーザを用いることで,加工溝を介した絶縁状態を確立でき,レーザ加工によるITO膜の電極作製が可能であることがわかった.

YAG high-frequency wavelength transparent electrode manufacturing method, the influence of the wavelength of light on the processing characteristics, the possibility of investigation, the following observations were obtained. YAG fundamental wave (λ1064nm), 2nd high-pitched wave (λ532nm), 3rd high-pitched wave (λ355nm), and 4th high-pitched wave (λ wavelength 266nm) ITO film irradiation, the third and fourth high-profile wave, photon generation, substrate absorption, processing part fluctuation excitation, good processing surface. The fundamental wave is the thermal shock wave. On the other hand, the transmittance of the second high-profile substrate is high, and the substrate material is removed. The ITO film is removed. 2. A certain average output is good for the shape of the machining groove, and the distance between the machining grooves and the conveying speed is necessary for precise control. 3. ITO film is used for the surface irradiation method. The ITO film is not removed in the center of the processing groove. The ITO film is irradiated with light in the reverse direction, and the generation is suppressed. 4. The second high wave is used in the case of the irradiation method. In the above,Nd : YAG 2nd high-pitched wave is used to establish the insulating state of the processing groove, and the electrode manufacturing of the ITO film is possible.

项目成果

岡本康寛: "LD励起YAG第2高調波によるITO膜の除去加工"精密工学会誌. 68・12. 1564-1569 (2002)

Yasuhiro Okamoto：“使用LD激发YAG二次谐波去除ITO膜”日本精密工程学会杂志68・12 1564-1569（2002年）。

Yasuhiro OKAMOTO: "Micro Machining of ITO Film by LD Pumped SHG YAG Laser"Proceedings of SPIE. Vol.4830. 40-45 (2002)

Yasuhiro OKAMOTO：“利用 LD 泵浦 SHG YAG 激光器对 ITO 薄膜进行微加工”SPIE 论文集。