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フォトレジスト塗布機への旋回噴流の適用およびその流れ構造の解明

フォトレジスト塗布機への旋回噴流の適用およびその流れ構造の解明
旋流射流在光刻胶涂布机中的应用及其流动结构的阐明
批准号:
14750120
负责人:
松崎 和愛
金额:
$1.79万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2003

项目摘要

项目成果

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今年度は,昨年度製作したスピンコーティング実験装置により,熱線流速計により排気流量を変化させてウェーハ上の気流を詳細に計測した.回転数は3000rpmに固定し,排気流量を0.0〜3.0m^3/minと変化させて,ウェーハの回転と同期した計測を行った.その結果,昨年度油膜法による可視化実験で観察されたエクマンスパイラルがウェーハ上に約31本の等高線の筋として観察された.昨年度の可視化実験では,排気流量による差異はほとんど見られなかったが,今年度の実験では,排気流量による差異がはっきりと現れた.排気流量の増加とともに,エクマンスパイラルが発生し始める半径位置,つまり臨界レイノルズ数が増加することが確認された.しかしながら,ウェーハ上の境界層が乱流に遷移する半径位置,つまり遷移レイノルズ数はさほど変化は見られなかった.また,排気流量の増加に伴い,エクマン螺旋に相当する等高線の輪郭がはっきりと観察された.高さ方向に詳細に計測した結果,高さ方向でエクマンスパイラルの存在位置が異なることが観察され,このエクマンスパイラルが三次元的な構造を持つことが示唆された.ウェーハよりかなり上方では,流れはウェーハ外縁の局所的な領域に集中することが分かった.今回の計測では,ウェーハの回転と同期しているType-Iのエクマンスパイラルを観察することができ,これがウエーハ上の境界層の乱流遷移に大きく関与していることが分かった.しかしながら,今回の計測ではウェーハの回転と同期しないType-IIのエクマンスパイラルは観察されておらず,このことは今後の課題である.
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
木村 誠一: "半導体スピンコーティングにおけるウェーハ上のEkaman Spiralに関する研究(第1報,可視化実験および熱線流速計による測定)"日本機械学会九州支部講演論文集. 48・1. 233-234 (2004)
木村精一:“半导体旋涂中晶圆上的 Ekaman 螺旋的研究(第 1 次报告,使用热线风速计的可视化实验和测量)”日本机械工程师学会九州分会会议记录 48・1(2004 年)。 )
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
半導体スピンコーティングにおける渦輪打込みによるエクマンスパイラルの制御
  • 批准号:
    16760133
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $2.5万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    松崎 和愛
  • 依托单位:
コアンダノズルを用いた高精度粒子分離システムの開発
  • 批准号:
    11750808
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $1.47万
  • 财政年份:
    1999
  • 负责人:
    松崎 和愛
  • 依托单位:
海外基金