シリコン深溝ナノ構造で生じる溶液電界効果を用いた分子認識デバイスの研究

利用硅深沟纳米结构溶液电场效应的分子识别器件研究

• 批准号: 14750583
• 负责人: 高井 まどか
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2002
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2002 至 2003
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14750583/
• 关键词: シリコン微細深溝加工; 溶液電界効果; 分子認識デバイス; 界面ゼータ電位; 電気泳動; プラズマエッチング; 電気浸透流; DNA; ゼータ電位; 電気浸透; pH

半導体製造プロセスを用いてシリコン基板に微細流路を形成し、微量試料溶液からの成分分析を行うマイクロ流体デバイスの創製を目的に研究を行った。昨年度までに、ナノメートルオーダーの深溝溝表面へ、絶縁性に優れた熱酸化膜の作製技術について検討を行った。,その結果、バイオ分子認識チップとして用いるに十分な耐圧特性が得られる絶縁膜としては、窒化膜が酸化膜より優れることが分かった。そこで今年度は、シリコン基板に、CVD法を用いて酸化膜/窒化膜の複合酸化膜を作製し、この酸化膜に、ウエットおよびドライエッチング法により、深さ50nm、流路幅250nmのナノ流路を形成し、シリコン基板裏面からの電圧印加により、流路内を流れる電流特性の評価を行った。シリコン基板裏面からのゲート電圧印加により、ナノ流路内を流れる電流値は、負のバイアスの印加(0V〜25V)に、より徐々に増大した。また、正のバイアスの印加では、電流値は減少した。これは、流路内壁面のゼータ電位変化に対応し、ゲート電圧が負に大きい場合は、電気浸透流による流れが支配的で電流値が増大し、逆に正のゲート電圧印加では、従来酸化膜表面のゼータ電位は、-60mVであるため、その値がゼロに近付き、電気浸透流による流速が減少したことにより電流値の減少が認められたと考察できる。ゼータ電位の変化により電流値の変化が引き起こされたことは、流体シミュレーションを用いた結果からも確かめることができた。さらに、ナノ流路内を流れる電流値は、例えば電解質イオンのような電荷をもつ物質の性質により非常に敏感であることが、実験結果およびシミュレーションより明らかとなった。つまり、バイオ分子などの、よりイオン性の高い物質を含む水溶液を用いた流体制御を、界面のゼータ電位を制御することにより行う場合は、狭ギャップにすることが必要であることも明らかとなった。これらの成果は、ナノギャップ流路をもるバイオ分子認識デバイスにおいて設計指針を示すものである。

Semiconductor manufacturing equipment uses a silicone substrate to form fine flow paths and dissolve trace amounts of samples. Analysis of the components of the fluid and the purpose of the creation and research of the liquid fluid. Last year, the production technology of the deep groove surface and the excellent thermal acidification film of the year was improved. , the result of the その, バイオmolecule recognition チップとして uses the いるに very high pressure resistance properties がObtained られる縁縁片としては, suffocated film and acidified film より优れることが分かった. This year's そこでは, シリコン substrate に, CVD method いて acidified film / sulfide film の complex Synthetic acidification film production system, acidification film production system, acidification film production system, and acidification film processing systemより, depth 50nm, flow path width 250nm, のナノ flow path formation し, シリコン base There is an electric pressure seal inside the board, and there is a current characteristic inside the flow path. There is a pressure printed circuit inside the シリコン substrate and a flow circuit inside the ナノ flow path.流値は、negativeのバイアスのInca(0V~25V)に、より雪々に嗗大した.また, 正のバイアスのInca では, current value は decreases した.これは, the potential of the inner wall surface of the flow path is changed, the voltage is negative, and the voltage is large. The electric current that is controlled by the electric current is soaked in the flow and is controlled by the electric current. To acidify the surface of the membrane, the electric potential is は, -60mV, であるため, そのがゼロにNearly pay き, electricity気infiltration flow による flow velocity が し た こ と に よ り current value の decrease が め ら れ た と investigation で き る.ゼータpotential の変化によりcurrent 夤の変化がinducedきriseこされたことは、 Fluid シミュレーションを Use いた results からも正かめることができた.さらに, ナノ路 を れるcurrent value は, example えばelectrolyte イオンのようなcharge をもつ material properties The quality is very sensitive, and the results are very sensitive.つまり, バイオmolecule などの, よりイオン性の高いsubstance をcontaining むaqueous solution を いたfluid system を, interface のゼータpotential control することにより行うoccasion は, narrow ギャッにすることがnecessary であることも明らかとなった.これらのachievementは、ナノギャップ流路をもるバイオmolecule recognition デバイスにおいて design pointer すものである.