移動マスクX線リソグラフィーにおける最適マスク移動パターン導出のアルゴリズム構築

用于导出移动掩模 X 射线光刻中最佳掩模移动模式的算法构建

• 批准号: 03J51111
• 负责人: 松塚 直樹
• 金额: $ 1.09万
• 依托单位: Ritsumeikan University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for JSPS Fellows
• 财政年份: 2003
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2003 至 2004
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-03J51111/
• 关键词: 移動マスクX線露光法; 3次元微細加工; 断続照射; 溶解界面伝播解析; X線リソグラフィー; 二重露光; 溶解界面伝播

本研究の目的は移動X線リソグラフィを用いて任意の3次元形状を実現するためのアルゴリズム構築である.昨年度までにマスク移動パターンを一次元に限定した場合において,レジスト表面における任意のエネルギー分布を与えるマスク移動パターン導出アルゴリズムを構築した.本年度は主にエネルギー分布と加工形状の変換手法の確立に関する研究を行った.1.断続照射による影響露光中はマスクの移動によって照射と停止の1サイクルが繰り返される.昨年度,1サイクル(約40〜80秒)の照射時間と停止時間の組合せを変化させることで,同じ照射量でも加工深さに影響を与えることを確認した.本年度は照射と停止の1サイクルを約5〜10秒程度に短くした場合,その影響が無視できる程度であることを確認した.この結果から,マスク移動のサイクルを調整することによって断続照射が加工形状に与える影響を無視できると考えられる.2.溶解界面伝播解析エネルギー分布を加工形状に変換するとき,3次元的な溶解界面の伝播を考慮する必要がある.その場合まず必要となるデータは,レジスト内のX線吸収エネルギー分布,吸収エネルギー分布と溶解速度の関係である.一般的な方法では,吸収エネルギー分布は光源からレジストまでにX線が通過する材料の一般的な物性値を用いて算出されるが,実際使用した材料の正確な物性値が未知であるため誤差が生じる.そこで,正確な物性値を用いずに2つの必要なデータを計算する手法を提案し,計算結果の妥当性を検証することによってこの手法の有用性を実証した.また3次元の溶解界面伝播のシミュレーションを用いずに簡単な式を解くことによって加工形状を予測する手法を提案し,レジスト表面に簡単な階段状のエネルギー分布を与える実験において,上記の方法で得られたデータを適用して検証を行い,その有用性を実証した.

The purpose of this study is to use any three-dimensional shape to show that there are significant changes in the X-ray system. Last year, the number of dollars was limited to the distribution of information on the surface and the distribution of information on the surface. This year, the main body of a book distributes the processing shape and the method of making sure that the research line. 1. To stop the exposure of the contact light, to move the radiation source, to stop the radiation exposure, and to return to the station. Last year, the exposure time of 1 kt (about 40 to 80 seconds) was combined with that of the radiation system, and the same exposure volume was used to confirm the impact of processing and monitoring. This year, the radiation exposure will be closed for about 5 seconds in a short period of 10 seconds, and you will not be able to pay attention to the impact of this year. The result of the experiment shows that the processing shape is affected by the processing shape and the image is not monitored. 2. The solution interface is distributed, the processing shape is processed, and the three-dimensional solution interface is necessary. It is necessary to determine the temperature distribution, the rate of dissolution, the rate of dissolution, and the rate of dissolution. The general method is that the light source is distributed and the physical properties of the material are calculated through the general physical properties of the material. The international use of the material is correct. Please make sure that you can use the necessary information to calculate the physical property. The calculation results show that the method is useful and useful. The three-dimensional solution interface is used to solve the problem that the shape is machined in the form of the solution of the three-dimensional dissolving interface. the solution of the three-dimensional solution interface is the solution of the three-dimensional solution interface, the solution of the three-dimensional solution interface, the solution of the three-dimensional solution, the solution of the three-dimensional solution,

项目成果

Algorithm to Derive Optimal Mask and Movement Patterns in Moving Mask Deep X-ray Lithography (M^2DXL)

移动掩模深 X 射线光刻中最佳掩模和运动模式的算法 (M^2DXL)

• 发表时间: 2005
• 期刊: IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines(電気学会) Vol.125 No.5(in press)
• 作者: N.Matsuzuka;O.Tabata
• 通讯作者: O.Tabata