Algorithm to Derive Optimal Mask and Movement Patterns in Moving Mask Deep X-ray Lithography (M^2DXL)
Algorithm to Derive Optimal Mask and Movement Patterns in Moving Mask Deep X-ray Lithography (M^2DXL)
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移动掩模深 X 射线光刻中最佳掩模和运动模式的算法 (M^2DXL)
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
O.Tabata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Matsuzuka;O.Tabata
用于 3D 微加工的多级深度 X 射线曝光系统
DOI：
10.1109/mhs.2000.903289
发表时间：
2000
期刊：
MHS2000. Proceedings of 2000 International Symposium on Micromechatronics and Human Science (Cat. No.00TH8530)
影响因子：
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作者：
H. You;N. Matsuzuka;T. Yamaji;O. Tabata
通讯作者：
O. Tabata
使用移动掩模深 X 射线光刻技术制造 3 维微结构 (M/sup 2/DXL)
DOI：
10.1109/memsys.2001.906487
发表时间：
2001
期刊：
Technical Digest. MEMS 2001. 14th IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (Cat. No.01CH37090)
影响因子：
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作者：
O. Tabata;N. Matsuzuka;T. Yamaji;Hui You;J. Minakuchi;K. Yamamoto
通讯作者：
K. Yamamoto
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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作者：
Dong;K. Gil;S. Chang;D. Jung;N. Y. Park;S. S. Lee
通讯作者：
S. S. Lee