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波形整形光パルスを用いた強レーザー場誘起クラスター内反応機構

使用波形光脉冲的强激光场诱导簇内反应机制

基本信息

批准号：
15750003
负责人：
板倉隆二
金额：
$ 2.3万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2003
资助国家：
日本
起止时间：
2003 至 2004
项目状态：
已结题

项目摘要

平成16年度の研究実績は以下のようにまとめられる。(1)質量選別されたメチルアニリンカチオンの強レーザー場中反応ダイナミクスアニリンのオルト、メタ、パラ位のそれぞれにメチル基が配向した2-,3-,および4-メチルアニリン(MA)を対象とし、強レーザー誘起分解反応における置換基の効果について調べた。タンデム型飛行時間質量選別器を用いて、MAカチオンに強レーザーパルス(λ=395nm,Δt~50fs,/~10^<15>W/cm^2、あるいはλ=532nm,Δt~6ns,/~10^<10>W/cm^2)を照射し、生成したフラグメントイオン種を検出した。観測結果に基づいて、分子の構造およびレーザーの波長とパルス幅に依存して反応機構が変化することが見出された。(2)波形整形レーザー場によるエタノールの解離性イオン化パルス列のパルス数およびチャープをパラメターとして、エタノールカチオンのC-O結合とC-C結合切断の分岐比の変化を観測し、この二つの競合するに対するパルス波形の効果を明らかにした。その結果、800nm付近の波長域の強光子場中におけるエタノールの解離性イオン化反応は、位相構造によらず、レーザー電場の持続時間により支配されていることが示唆された。(3)質量選別クラスターイオンのコインシデンス運動量画像装置の開発クラスター生成源となる差動排気チャンバーシステム、実績(1)で用いたタンデム型飛行時間質量選別器の第一段目の質量選別部、位置敏感型検出器を含む速度投影同時計測システムを設計、製作した。現在、3つの各部位のテスト実験を終了し、実際の計測が行える準備が終了した。

The research results of Heisei 16 are as follows: (1)Quality selection: The quality of the product is determined by the quality of the product. The quality of the product is determined by the quality of the product. The quality of the product is determined by the quality of the product. The quality of the product is determined by the quality of the product. A TOF mass selector is used to detect and generate light from a range of wavelengths (λ=395nm,Δt~50fs,/~10^<15>W/cm^2, λ=532nm,Δt~6ns,/~10^<10>W/cm^2). The measurement results show that the molecular structure and wavelength depend on the reaction mechanism. (2)Waveform shaping: The effect of waveform shaping on the dissociation ratio of C-O bond and C-C bond cutoff in the field is clearly demonstrated. As a result, the dissociation of the photon field in the wavelength region near 800nm is controlled by the phase structure and the duration of the photon field. (3)A mass selection unit for mass selection, a differential emission system for mass selection, and a position sensitive detector for velocity projection and simultaneous measurement system for mass selection and mass selection of the first stage of the mass selection unit for mass selection and mass selection of the first stage of the mass selection unit for mass selection and differential emission system for mass selection and mass measurement of motion amount imaging device. Now, 3 parts of the time to complete the test, the actual test to complete the preparation