電子励起分子の電子付着過程の研究
电子激发分子的电子附着过程研究
基本信息
- 批准号:15750014
- 负责人:
- 金额:$ 1.73万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2003
- 资助国家:日本
- 起止时间:2003 至 2004
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究はパルスラジオリシス・マイクロ波加熱空洞法により、さまざまなハロゲン化合物の電子付着速度定数の平均電子エネルギー依存を測定し、この結果を電子付着断面積に変換し報告してきた。最近、試料気体の温度を電子エネルギーとは独立に150K〜600Kの範囲で変化させる手法を確立し、CHCl_3を対象に測定を行ったところ、基底状態分子比べ振動励起分子の方が低エネルギー領域の電子を非常に効率よく捕獲することを分かった。また、この実験から室温における分子の電子付着反応においても振動励起分子による影響が無視できないことを示した。そこで、振動励起より高いエネルギー状態である電子励起状態に着目しその電子付着過程を明らかにすることを考えた。一般に電子付着過程において対象とする分子の電子状態は付着後の負イオン状態に多大な影響を与えるとされているため、電子励起分子の電子付着を解明することは電子付過程の本質を明らかにするためにも非常に重要な研究であると考える。本研究はこのような背景に基づき、パルス紫外線レーザーにより電子励起された電子親和性気体の電子付着過程を対象として測定を行い、その結果と基底状態の結果とを比較し、電子励起分子の電子付着過程を明らかにすることを主要な目的とする。本年度は、パルスX線とレーザー光を同期させ、試料気体に照射することが可能であり、試料気体を室温から液体窒素温度の範囲で変えられるマイクロ波空洞共振器を用いて、クロロベンゼンを対象に測定を行った。しかし、低温における試料気体の凝縮とレーザー強度の小ささにより、予想される結果を得ることが困難であった。そこで、ハロゲン化合物として、プロモトリフルオロメタンを対象に室温から約150Kの温度領域における測定を行い各気体温度における電子付着速度定数の結果を得た。また、昨年確立した時間分解マイクロ波誘電吸収法と過渡吸収法の2種類の異なる測定法を組み合わせ、レーザー照射により生じた生成物を同時間に測定する手法により、ハロゲン化アニリンの光電子反応の詳細を明らかにした。尚、本測定法は「光照射における分子挙動の観測方法、および同法に用いるクロスパイプ型マイクロ波空洞共振器」の名称で特許公開出願中である。
In this study, the dependence of electron deposition velocity on average electron deposition area of compounds was determined by using the wave-heated cavity method. Recently, the electron temperature of the sample is 150K ~ 600K, and the method for determining the electron temperature of the sample is 150K ~ 600K. The molecular temperature of the sample is 150 K ~ 600 K, and the electron temperature of the sample is 150 K ~ 600 K. The electron of the molecule is reflected in the vibration of the molecule. For example, the vibration excitation is high, the electron excitation is high, and the electron emission process is high. The electronic state of the molecule is very important for understanding the nature of the electron transfer process The main purpose of this study is to determine the electron transfer process of electron excited molecules and to compare the results of electron transfer process of electron excited molecules. This year, X-ray and X-ray irradiation are carried out simultaneously, sample gas is irradiated simultaneously, sample gas is irradiated simultaneously, The condensation and strength of the sample at low temperature are difficult to obtain. The results of electron deposition velocity determination for the temperature range from room temperature to about 150K were obtained. The determination method of the two kinds of photoelectron reaction is composed of the time decomposition method and the transition absorption method. This method is named "Method for measuring molecular motion by light irradiation," Method for measuring molecular motion
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
砂川 武義其他文献
PVA-KIゲル線量計の反応メカニズム研究(2)
PVA-KI凝胶剂量计反应机理研究(二)
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
砂川 武義;Harvel Glenn;青木 祐太郎 - 通讯作者:
青木 祐太郎
PVA-KIゲル線量計の反応メカニズム研究(3)
PVA-KI凝胶剂量计反应机理研究(三)
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
砂川 武義;Harvel Glenn;青木 祐太郎 - 通讯作者:
青木 祐太郎
PVA-KIゲル線量計の反応メカニズムの解明 (Ⅰ)
PVA-KI凝胶剂量计反应机理的阐明(一)
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
砂川 武義;Glenn Harvel;青木 祐太郎 - 通讯作者:
青木 祐太郎
PVA-KIゲル線量計へのHeイオン照射効果の検討
PVA-KI凝胶剂量计He离子辐照效果研究
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
青木 祐太郎;Harvel Glenn;久米 恭;畑下 昌範;佐倉 俊治;砂川 武義 - 通讯作者:
砂川 武義
PVA-KI ゲル線量計への Heイオン照射における in situ 測定
PVA-KI凝胶剂量计上He离子辐照的原位测量
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
砂川 武義;Harvel Glenn;青木 祐太郎;久米 恭 - 通讯作者:
久米 恭
砂川 武義的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('砂川 武義', 18)}}的其他基金
低温気体中における電子付着過程の研究
低温气体中电子附着过程的研究
- 批准号:
13740334 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 1.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
気体中の電子のエネルギー緩和過程の研究
气体中电子能量弛豫过程的研究
- 批准号:
98J07648 - 财政年份:1998
- 资助金额:
$ 1.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows














{{item.name}}会员




