课题基金 / 基金详情

紫外全固体レーザーのテラワット化にむけた高効率、高出力な新増幅器の開発

紫外全固体レーザーのテラワット化にむけた高効率、高出力な新増幅器の開発
开发用于太瓦紫外全固态激光器的新型高效、高输出放大器
批准号:
16760043
负责人:
小野 晋吾
金额:
$2.3万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2006

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
本研究では、高出力レーザーパルス発生を可能にするための、紫外レーザー結晶を用いた新方式のサイドポンプレーザー増幅システムの設計と構築を目的としている。今年度は、昨年度までに作製したレーザー増幅器の評価を行った。サイドポンプ増幅器用Ce : LiCAF結晶は入力及び出力パルス用に2つのブリュースター面、励起パルス用には2つのブリュースター入射面と内部反射用の2つの直行した面を持つ。励起レーザーとして4台のNd : YAGレーザーを用い、2つのブリュースター面をそれぞれ2本のビームで励起する。シードパルスには、Ce:LiCAF結晶を利得媒質としたNd:YAGレーザー励起の共振器から発生させた、波長290nm、パルス幅3ns、パルスエネルギー6mJ、繰返し周波数10Hzのパルスを用い、今回作成したレーザー増幅器によって増幅する。その出力がこれまでに得られている最大のパルスエネルギー(32mJ)に達した場合の励起状態における利得分布を、紫外用CCDカメラ及びカメラレンズを用いて評価を行った。増幅されたビームのパターンは比較的良好なものが得られているが、結晶の角でけられたビームが結晶内で一部乱反射を起こしている。これを取り除くようにビームを照射すると増幅率が大幅に減少するため、この点について今後改善の必要性がある。しかし、結晶内における寄生発振は観測されておらず、これによる結晶の損傷が起こる可能性はきわめて低い。またシードパルスと励起レーザーのパルスの遅延の許容幅についても評価を行い、半値全幅で11ナノ秒であった。これは、電気的にタイミング制御を行うのに十分な許容幅であり、制御系に関する改善点は必要ないといえる。これらの評価から、本研究において開発したレーザー増幅器は、紫外テラワットレーザーに利用できる実用的なものであるといえる。
英文摘要
本研究では、高出力レーザーパルス発生を可能にするための、紫外レーザー結晶を用いた新方式のサイドポンプレーザー増幅システムの設計と構築を目的としている。今年度は、昨年度までに作製したレーザー増幅器の評価を行った。サイドポンプ増幅器用Ce : LiCAF結晶は入力及び出力パルス用に2つのブリュースター面、励起パルス用には2つのブリュースター入射面と内部反射用の2つの直行した面を持つ。励起レーザーとして4台のNd : YAGレーザーを用い、2つのブリュースター面をそれぞれ2本のビームで励起する。シードパルスには、Ce:LiCAF結晶を利得媒質としたNd:YAGレーザー励起の共振器から発生させた、波長290nm、パルス幅3ns、パルスエネルギー6mJ、繰返し周波数10Hzのパルスを用い、今回作成したレーザー増幅器によって増幅する。その出力がこれまでに得られている最大のパルスエネルギー(32mJ)に達した場合の励起状態における利得分布を、紫外用CCDカメラ及びカメラレンズを用いて評価を行った。増幅されたビームのパターンは比較的良好なものが得られているが、結晶の角でけられたビームが結晶内で一部乱反射を起こしている。これを取り除くようにビームを照射すると増幅率が大幅に減少するため、この点について今後改善の必要性がある。しかし、結晶内における寄生発振は観測されておらず、これによる結晶の損傷が起こる可能性はきわめて低い。またシードパルスと励起レーザーのパルスの遅延の許容幅についても評価を行い、半値全幅で11ナノ秒であった。これは、電気的にタイミング制御を行うのに十分な許容幅であり、制御系に関する改善点は必要ないといえる。これらの評価から、本研究において開発したレーザー増幅器は、紫外テラワットレーザーに利用できる実用的なものであるといえる。
期刊论文(2)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1143/jjap.44.7285
发表时间: 2005-10-01
期刊: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS
影响因子: --
作者: [Ono, S, El Ouenzerfi, R, Fukuda, T]
通讯作者: Fukuda, T
DOI: 10.1063/1.2158514
发表时间: 2005-12-26
期刊: APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子: 4
作者: [Ono, S, Murakami, H, Fukuda, T]
通讯作者: Fukuda, T
テラヘルツ領域での磁場による光非線形制御の研究
  • 批准号:
    00J00127
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $1.92万
  • 财政年份:
    2000
  • 负责人:
    小野 晋吾
  • 依托单位: