温度応答性高分子薄膜を利用した新規高機能性細胞アレイの開発

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温度応答性能を有するパターン化表面の作製の検討:温度変化により細胞接着および脱着が可能なパターン化の作成について検討を行った。昨年度、作製した30umサイズの正方形を有するPDMSのステンシルマスクを使い、ポリアクリルアミドをグラフトしたTCPS表面(PAAm-TCPS)に、温度応答性高分子であるpoly(N-(N'-isobutylacrylamide)propyl methacrylamide)(PNNisoBPMA)を電子線照射によりグラフトした。電子線照射直後の表面はステンシルマスクのパターンと形状を反映するようにPNNisoBPMAが堆積した。エタノール、冷水による洗浄により、堆積物は除去された。ステンシルマスクを利用せず、PAAm-TCPS全面にPNNisoBPMAをグラフトした表面は温度変化により細胞接着、剥離可能な表面であったことから、パターン化した表面も同様な性質であると推察した。一方、ガラス表面に電子線照射によりPIPAAmをグラフトした表面をUVエキシマレーザーにより表面微細加工を行い、30um四方の正方形を表面上に作製した。FITCラベル化BSAによる蛍光色素染色やTOF-SIMSによる表面分析から、レーザーアブレーション後の表面はガラス表面が露出していることが確認できた。これらの結果より、簡単にPIPAAm層を除去できることから、パターン化表面を作製するにはUVエキシマレーザーが有効であることが示唆された。これらの表面で細胞を培養した場合、1細胞レベルでの環境で培養ができ、温度変化により接着、剥離が制御できると期待できる。