课题基金 / 基金详情

片側パターン電極を用いた電気粘性流体援用研磨

片側パターン電極を用いた電気粘性流体援用研磨
使用单面图案电极的电流变流体辅助抛光
批准号:
17760113
负责人:
菊池 武士
金额:
$1.47万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2005
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2005 至 2006

项目摘要

项目成果

相关文献

中文摘要
翻译
電場で粘性が制御可能な流体を電気粘性流体(ER流体)と言う.このER流体に研磨砥粒を混合したスラリー(ERスラリーと呼ぶ)を用い,電場を印可しながら研磨を行なうと研磨効果に差が見られることが先行研究で知られていた.本研究では,片側電極パターンを用い,電場印可を片面にて行なうことで絶縁物への適応も可能なER流体援用研磨法に関する研究を行なった.具体的には,まず,砥粒を混合していない状態のER流体に対して片側電極を用いた場合の粘性特性に関して調査を行なった.高分子液晶系ER流体に対する片側電極上での粘性特性は先行研究で知られていたが,本研究では新たに低分子液晶に関しても同等の実験を行い,低分子液晶の電気粘性特性が片側パターン電極上でも発現すること,その特性が電極パターンに依存すること,非常に低速領域では電場の有無による粘性変化率が大きいことを初めて確認した.これらの成果は,今回の研磨を目的とした用途以外にも潤滑制御にも適用できる可能性があることを見出した.また,砥粒の種類(粒径,材質)や充填率によるERスラリーの粘性特性に関しても調査を行なった.砥粒の種類としては主にダイヤモンド砥粒とWA砥粒を用いた.ダイヤモンド砥粒(粒径3-8μm)を用いた実験では,充填率が10wt%,20wt%の場合においてはER流体の粘性変化特性に大きく影響を与えず,研磨制御用スラリーに適応可能であることを確認した.また,30wt%以上の場合には粘性変化効果が減少することも確認された.WA砥粒(#500から#8000)に関しては一様に充填率10wt%の場合はER効果への影響がないが,20wt%以上になると電流の急激な上昇が起こり,研磨への適用が困難であることがわかった.これらの成果で作製されたERスラリーを用いて研磨実験を行い,電場を印可した場合に研磨効率が上昇することが確認された.
英文摘要
電場で粘性が制御可能な流体を電気粘性流体(ER流体)と言う.このER流体に研磨砥粒を混合したスラリー(ERスラリーと呼ぶ)を用い,電場を印可しながら研磨を行なうと研磨効果に差が見られることが先行研究で知られていた.本研究では,片側電極パターンを用い,電場印可を片面にて行なうことで絶縁物への適応も可能なER流体援用研磨法に関する研究を行なった.具体的には,まず,砥粒を混合していない状態のER流体に対して片側電極を用いた場合の粘性特性に関して調査を行なった.高分子液晶系ER流体に対する片側電極上での粘性特性は先行研究で知られていたが,本研究では新たに低分子液晶に関しても同等の実験を行い,低分子液晶の電気粘性特性が片側パターン電極上でも発現すること,その特性が電極パターンに依存すること,非常に低速領域では電場の有無による粘性変化率が大きいことを初めて確認した.これらの成果は,今回の研磨を目的とした用途以外にも潤滑制御にも適用できる可能性があることを見出した.また,砥粒の種類(粒径,材質)や充填率によるERスラリーの粘性特性に関しても調査を行なった.砥粒の種類としては主にダイヤモンド砥粒とWA砥粒を用いた.ダイヤモンド砥粒(粒径3-8μm)を用いた実験では,充填率が10wt%,20wt%の場合においてはER流体の粘性変化特性に大きく影響を与えず,研磨制御用スラリーに適応可能であることを確認した.また,30wt%以上の場合には粘性変化効果が減少することも確認された.WA砥粒(#500から#8000)に関しては一様に充填率10wt%の場合はER効果への影響がないが,20wt%以上になると電流の急激な上昇が起こり,研磨への適用が困難であることがわかった.これらの成果で作製されたERスラリーを用いて研磨実験を行い,電場を印可した場合に研磨効率が上昇することが確認された.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
高分子液晶系ER流体を用いた新規な電極の印加法である片側パターン電極の解析とそれを用いた選択的研磨制御
单面图案电极的分析、使用聚合物液晶ER液的新型电极应用方法以及使用它的选择性抛光控制
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: JFPS機能性流体を用いたスマートフルードバワーシステムに関する研究委員会研究成果報告書 (I)
影响因子: --
作者: [柳澤秀吉, 村上存, 菊池武士]
通讯作者: 菊池武士
DOI: 10.1142/s0217979205030761
发表时间: 2005-04
期刊: International Journal of Modern Physics B
影响因子: 1.7
作者: [T. Kikuchi;J. Fujiwara;J. Furusho;A. Inoue]
通讯作者: T. Kikuchi;J. Fujiwara;J. Furusho;A. Inoue
高分子液晶を用いた片側パターン電極による選択的研磨制御(第一報:ERスラリーのER効果と研磨特性)
使用聚合物液晶的单面图案化电极进行选择性抛光控制(第一篇报告:ER效应和ER浆料的抛光特性)
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: 日本機械学会論文集(C編) 71・708
影响因子: --
作者: [柳澤秀吉, 村上存, 菊池武士, 菊池 武士]
通讯作者: 菊池 武士
Total Force Calculation Method for ER Effect of Liquid Crystalline Polymer on One-sided Patterned Electrode Systems
液晶聚合物对单面图案化电极系统ER效应的总力计算方法
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: International Journal of Modern Physics B 19・7-9
影响因子: --
作者: [柳澤秀吉, 村上存, 菊池武士, 菊池 武士, Takehito KIKUCHI]
通讯作者: Takehito KIKUCHI