含リン脱離基法の実践的利用によるサポニン類の全合成研究

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糖供与体のシリルエーテルに対する反応性の差を利用した糖鎖の二方向伸長戦略をオリゴ糖鎖の効率的合成へと展開すべく、まず各種シリルエーテル糖受容体に対する糖供与体の反応性を調べた。ジフェニルボスファート、ホスフィンイミダート、ボスホロジアミダートを脱離基として組み込んだベンゾイル保護糖供与体を用いるTMSエーテルのグリコシル化反応はTMSOTf存在下0℃でいずれも円滑に進行し、対応するβ-グリコシドを良好な収率で与えた。また、ホスファート法においてはTMSエーテルのみならずTBSエーテルやTBDPSエーテルも糖受容体として機能することが明らかとなった。一方、ジエチルボスファイトを脱離基として組み込んだビバロイル保護糖供与体はシリルエーテルとは反応しない。そこで、6位水酸基をTBSエーテルとして保護した4位糖アルコールを糖受容体とし、本糖供与体を用いて化学選択的なグリコシル化を試みたところ、反応剤としてBF_3-OEt_2を用いると水酸基のみがグリコシル化された二糖が収率75%で得られることが分かった。生成物の6位TBSエーテルはジフェニルボスファートを組み込んだ糖供与体を用いることで直接グリコシル化可能であり、保護基の着脱を行うことなく二工程で分岐型三糖を得ることができた。次に直鎖型三糖の合成への展開を試みた。6位水酸基をTBDPS基で保護し、ジエチルポスファイトを脱離基として組み込んだベンゾイル保護糖供与体を用いるグリコシル化反応はTMSOTf存在下-50℃で進行した。生成した二糖に対し、ジフェニルポスファートを組み込んだ糖供与体を反応させることで直鎖型三糖を収率良く得ることができた。また、直鎖型三糖の合成は"one-pot"で行うことも可能であった。なお、本戦略を利用することでシラシロシド E-1の構成四糖をわずか4工程で構築することにも成功した。