新規液晶光学デバイスを用いたレーザマニピュレーション装置の開発研究
采用新型液晶光学器件的激光操控设备的研发
基本信息
- 批准号:18760246
- 负责人:
- 金额:$ 2.37万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2007
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究は,レーザマニピュレーション装置における焦点距離,光偏向機能,干渉効果及び楕円形状の屈折率分布特性すなわちアナモルフィックレンズ特性を有する液晶光学デバイスの最適設計・試作を行い,機械的制御系を一切必要としない新規なレーザマニピュレーション装置を構築することである。本年度(〜平成20年3月31日)の研究実績を以下に示す。(1)幾何学的及び光学的異方性を有する微粒子の光捕捉楕円形状の屈折率分布特性すなわちアナモルフィックレンズ特性を有する液晶光学デバイスを構成し,レーザ々ニピュレーション装置に適用を行った。この装置を用いて,幾何学的微粒子の光捕捉・位置制御さらに回転制御を行った。液晶光学デバイスにおけるオーバードライブ等の駆動電圧を調整することにより高速で位置・回転制御が可能となった。これを応用して光学的に異方性を有する微粒子の光捕捉を行った。(2)幾何学異方性を有する複数の微粒子等の3次元独立位置制御液晶光学デバイスにおける干渉縞の明部を利用した複数の幾何学的微粒子の光捕捉,及び電圧変化による移動制御を行った。(3)液晶光学デバイスのアレイ化液晶光学デバイスを微細加工技術によりアレイの作製を行い,複数の微粒子等を独立に光捕捉し,3次元位置制御及び回転制御を行った。(4)面発光型半導体レーザと液晶光学デバイスアレイを組み合わせたシステムの構築VCSELと液晶光学デバイスアレイを組み合わせたシステムを構成したが,液晶光学デバイスを組み込む際に,偏光板による光ロスが生じ,光圧力を発生するまでの光圧まで至らなかった。以上,全体計画における各々の研究課題の位置付けを明確にし,問題点等の抽出を行い,総合的な考察を加えた。
This study は レ ー ザ マ ニ ピ ュ レ ー シ ョ ン device に お け る focus distance, light deflection function, dry involved working fruit and び 楕 shape has drifted back towards ¥ の inflectional rate distribution す な わ ち ア ナ モ ル フ ィ ッ ク レ ン ズ features を have す る liquid crystal optical デ バ イ ス の を line い optimum design, test, mechanical suppression system を all necessary と し な い new rules な レ ー ザ マ ニ ピ ュ レ ー The ショ を device を constructs する する とである とである. The research achievements of the current year (up to March 31, Heisei 20) are を as shown in に. (1) the geometry and び optical vision part を have す る particles の light capture 楕 shape has drifted back towards ¥ の inflectional rate distribution す な わ ち ア ナ モ ル フ ィ ッ ク レ ン ズ features を have す る liquid crystal optical デ バ イ ス を constitute し レ ー ザ 々 ニ ピ ュ レ ー シ ョ ン line device に applicable を っ た. The <s:1> <s:1> device を uses を て, geometrical micro-particle <s:1> light capture · position control さらに returns 転 to control を rows った. Liquid crystal optical デ バ イ ス に お け る オ ー バ ー ド ラ イ ブ etc. の 駆 galvanic 圧 を adjustment す る こ と に よ り high-speed で position, back to the planning system of imperial が may と な っ た. <s:1> れを応 uses the に anisotropy of て て optics を to capture を rows った with する micro-particles and <s:1> light. (2) different part geometry を have す る plural の particles such as の 3 dimensional independent position suppression liquid crystal optical デ バ イ ス に お け る dry involved stripe の Ming ministry を し た plural の geometry の capture light particles, and electric 圧 び variations change に よ る mobile suppression を line っ た. (3) liquid crystal optical デ バ イ ス の ア レ イ chemical liquid crystal optical デ バ イ ス に を microfabrication techniques よ り ア レ イ の cropping を い, plural の particles を に light capture し independently, such as three dimensional position suppression and び back line planning system of imperial を っ た. (4) surface 発 light type semiconductor レ ー ザ と liquid crystal optical デ バ イ ス ア レ イ を group み close わ せ た シ ス テ ム の build VCSEL と liquid crystal optical デ バ イ ス ア レ イ を group み close わ せ た シ ス テ ム を constitute し た が, liquid crystal optical デ バ イ ス を group み 込 む interstate に, polarizing film に よ る light ロ ス が じ, light pressure を 発 raw す る ま で の light 圧 ま で to ら Youdaoplaceholder0 った. Above, the entire project に お け る each 々 の research topic の position pay け を clear に し, trouble spots such as line を い の spare, 総 な investigation of を plus え た.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Liquid Crystal Laser Manipulation System for Controlling Microscopic Particles
用于控制微观粒子的液晶激光操纵系统
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M.Kawamura;M.Ye;S.Sato
- 通讯作者:S.Sato
Optical tweezers system by using a liquid ctysta1 optical device
使用液体ctysta1光学器件的光镊系统
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Marenori;Kawamura;Mao;Ye;Susumu;Sato
- 通讯作者:Sato
液晶光学デバイスを用いた光ビンセット装置
采用液晶光学器件的光学仓设置装置
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Marenori;Kawamura;Hiroyuki;Umeda;Junji;Onishi;Mao;Ye;Susumu;Sato;河村希典・大西潤治・葉茂・佐藤進
- 通讯作者:河村希典・大西潤治・葉茂・佐藤進
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河村 希典其他文献
励起子レート方程式モデルを用いたUV-B帯AlGaN量子井戸構造の発光ダイナミクス
使用激子速率方程模型的 UV-B AlGaN 量子阱结构的发光动力学
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
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姫野邦夫,中生拓希,武田椋平,倉井聡,岡田成仁,室谷英彰,M. Ajmal Khan,前田哲利,定昌史,平山秀樹,山田陽一
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- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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河村希典
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- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
山平 大喜;河村 希典 - 通讯作者:
河村 希典
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- 批准号:
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- 资助金额:
$ 2.37万 - 项目类别:
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