Field-effect phase transitions in nanoscale oxides

纳米级氧化物中的场效应相变

基本信息

  • 批准号:
    19340094
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 12.06万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

We have developed a process for fabricating micron-scale fully epitaxial top-gate oxide field-effect transistors that use an oxide channel, oxide source and drain electrodes and a wide-gap oxide gate insulator. We have studied charge accumulation at CaHfO_3/SrTiO_3, DyScO_3/SrTiO_3, and SrTiO_3/LaTiO_3 interfaces. As a way to confine carriers in a narrower layer at an interface, we are developing Ruddlesden-Popper-type two-dimensionalquantum wells
我们已经开发出一种用于制造微米级全外延顶栅氧化物场效应晶体管的工艺,该工艺使用氧化物沟道、氧化物源极和漏极以及宽间隙氧化物栅极绝缘体。我们研究了CaHfO_3/SrTiO_3,DyScO_3/SrTiO_3,SrTiO_3/LaTiO_3界面的电荷积累。作为一种将载流子限制在界面处较窄层中的方法,我们正在开发Ruddlesden-Popper型二维量子威尔斯阱

项目成果

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Probing the electronic states in oxide heterostructures by field effect+J29+N67
通过场效应探测氧化物异质结构中的电子态 J29 N67
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Nishio;T. Abe;T. Ohnishi;M. Lippmaa;M.Lippmaa
  • 通讯作者:
    M.Lippmaa
Pulsed Laser Deposition : 酸化物ターゲット中の酸素
脉冲激光沉积:氧化物靶材中的氧气
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大西剛;Mikk Lippmaa
  • 通讯作者:
    Mikk Lippmaa
Interfacial electronic structure of SrTiO_3/SrRuO_3 heterojuctions studied by in situ photoemissionspectroscopy
原位光电子能谱研究SrTiO_3/SrRuO_3异质结的界面电子结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Kumigashira;M. Minohara;M. Takizawa;A. Fujimori;D. Toyota;I. Ohkubo;M. Oshima;M. Lippmaa;M. Kawasaki
  • 通讯作者:
    M. Kawasaki
単結晶SrTiO_3電界効果トランジスタに向けたエピタキシャルDyScO_3薄膜の作製
单晶SrTiO_3场效应晶体管外延DyScO_3薄膜的制备
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    西尾和記;安部拓也;大西剛;山本剛久;Mikk Lippmaa
  • 通讯作者:
    Mikk Lippmaa
Single Crystal SrTiO_3 (100) Field Effect Transistors with epitaxial DyScO_3 gate insulator
带外延 DyScO_3 栅极绝缘体的单晶 SrTiO_3 (100) 场效应晶体管
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Nishio;T. Abe;T. Ohnishi;M. Lippmaa
  • 通讯作者:
    M. Lippmaa
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  • 资助金额:
    $ 12.06万
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