硬X線Sub-10nm集光ミラー作製に関する研究

本年度は前年度に引き続き,高精度Pt/C多層膜集光ミラーによる硬X線Sub-10nmビーム形成を目的とした各種集光実験及び要素技術開発を行った.単枚の多層膜集光ミラーによる強度半値幅8nm前後の1次元ライン集光を複数回の独立した実験により確認したことにより,1次元Sub-10nm集光実現の確証を得ることができた.また集光ビームの波面収差補正の実験結果に関する論文発表を行った.さらに,Sub-10nmビーム評価のためのビームプロファイル計測法として,ナイフエッジからの散乱X線強度計測と位相回復を利用した波動場復元に基づく画期的な手法を開発し,論文発表を行った.また,X線ナノ集光のための多層膜ミラー設計の今後の指針を得るため,周期長の特に短いPt/C多層膜のX線反射特性について調べ,多層膜ミラーとして機能する最小周期長を特定するなど,ミラー設計に関する重要な知見を得ることに成功した.また,2枚のミラーを用いたK-B(Kirkpatrick-Baez)光学系による2次元同時Sub-10nm集光のための実験ユニットを開発し,集光実験を行った.現在までにSub-10nmの集光径における2次元集光は実現していないが,そのための課題としてビームプロファイル計測システムの改善の必要性,特に,計測のための高精度なX線散乱体の必要性が実験により明らかとなるなど,今後の研究を推進する上で重要な情報を得ることができた.以上のように,本年度遂行した研究により1次元集光の硬X線Sub-10nmビームの実現が確証付けられ,さらに,2次元集光ビーム実現のための確かな道筋を示すことができた,また,多層膜技術や高精度ビーム評価法に関する研究の進展等,当該分野の発展に大いに資する成果を上げることができたと考えている.

本年度は前年度に引き続き,高精度Pt/C多層膜集光ミラーによる硬X線Sub-10nmビーム形成を目的とした各種集光実験及び要素技術開発を行った.単枚の多層膜集光ミラーによる強度半値幅8nm前後の1次元ライン集光を複数回の独立した実験により確認したことにより,1次元Sub-10nm集光実現の確証を得ることができた.また集光ビームの波面収差補正の実験結果に関する論文発表を行った.さらに,Sub-10nmビーム評価のためのビームプロファイル計測法として,ナイフエッジからの散乱X線強度計測と位相回復を利用した波動場復元に基づく画期的な手法を開発し,論文発表を行った.また,X線ナノ集光のための多層膜ミラー設計の今後の指針を得るため,周期長の特に短いPt/C多層膜のX線反射特性について調べ,多層膜ミラーとして機能する最小周期長を特定するなど,ミラー設計に関する重要な知見を得ることに成功した.また,2枚のミラーを用いたK-B(Kirkpatrick-Baez)光学系による2次元同時Sub-10nm集光のための実験ユニットを開発し,集光実験を行った.現在までにSub-10nmの集光径における2次元集光は実現していないが,そのための課題としてビームプロファイル計測システムの改善の必要性,特に,計測のための高精度なX線散乱体の必要性が実験により明らかとなるなど,今後の研究を推進する上で重要な情報を得ることができた.以上のように,本年度遂行した研究により1次元集光の硬X線Sub-10nmビームの実現が確証付けられ,さらに,2次元集光ビーム実現のための確かな道筋を示すことができた,また,多層膜技術や高精度ビーム評価法に関する研究の進展等,当該分野の発展に大いに資する成果を上げることができたと考えている.