Novel developments in the high-resolution spectroscopic study of reactive transition metal transient species
Novel developments in the high-resolution spectroscopic study of reactive transition metal transient species
活性过渡金属瞬态物种高分辨率光谱研究的新进展
批准号：
20550010
负责人：
OKABAYASHI Toshiaki
金额：
$3.16万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2008
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2008 至 2010
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英文摘要
Fourier transform microwave (FTMW) spectrometer was developed for the high-resolution study of the reactive transition metal transient species. A newly designed laser-ablation system with an electronic discharge was combined with the FTMW spectrometer. Some reactive species were observed with a good S/N ratio. A good prospect is now seen in our current development to extend the high-resolution spectroscopy to more reactive transition metal species like nanoclusters.
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AgSHのマイクロ波分光
AgSH 的微波光谱
AgSH 的微波光谱
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[竹中規雄, 小谷野哲之, 北村勇吉, 麻田俊雄, 長岡正隆, Hirofumi Sato, 岡林利明・山本拓也・水口伝一朗・岡林恵美・谷本光敏]
通讯作者：
岡林利明・山本拓也・水口伝一朗・岡林恵美・谷本光敏
DOI：
10.1016/j.cplett.2010.04.037
发表时间：
2010-05
期刊：
Chemical Physics Letters
影响因子：
2.8
作者：
[Emi Y. Okabayashi;T. Okabayashi;T. Furuya;M. Tanimoto]
通讯作者：
Emi Y. Okabayashi;T. Okabayashi;T. Furuya;M. Tanimoto
CH_2IClのフーリエ変換マイクロ波分光
CH_2ICl的傅里叶变换微波光谱
CH_2ICl的傅里叶变换微波光谱
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K.Iida, D.Yokogawa, A.Ikeda, H.Sato, S.Sakaki, 酒井翔平・尾関博之・S.Bailleux・岡林利明]
通讯作者：
酒井翔平・尾関博之・S.Bailleux・岡林利明
Microwave spectroscopy of the PBr radical in the X^3Σ- state
X^3Σ-态PBr自由基的微波光谱
X^3Σ-态PBr自由基的微波光谱
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
J.Chem.Phys. 129(12)
影响因子：
--
作者：
[Toshiaki Okabayashi, Hideaki Kawajiri, Michiaki Umeyama, Chihiro Ide, Sumio Oe, Mitsutoshi Tanimoto]
通讯作者：
Mitsutoshi Tanimoto
DOI：
10.1021/ja808153g
发表时间：
2009-08
期刊：
Journal of the American Chemical Society
影响因子：
15
作者：
[T. Okabayashi;Emi Y. Okabayashi;Fumi Koto;T. Ishida;M. Tanimoto]
通讯作者：
T. Okabayashi;Emi Y. Okabayashi;Fumi Koto;T. Ishida;M. Tanimoto
共 25 条
Spectroscopic study on the reactive transition-metal species developed by the chemical sputtering method at very low temperature
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批准号：23550014
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.33万
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财政年份：2011
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负责人：OKABAYASHI Toshiaki
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依托单位：
海外基金