Plasma processes by high reactivity atmospheric pressure H_2O plasma
通过高反应性常压H_2O等离子体进行等离子体处理
基本信息
- 批准号:20560678
- 负责人:
- 金额:$ 2.5万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2008
- 资助国家:日本
- 起止时间:2008 至 2010
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
The plasma source using the water of the low environmental impact as plasma gas was developed. Water absorbs a microwave (2.45 GHz) efficiently. The form of the microwave resonator was devised for the plasma generation in an atmospheric pressure, and the gas flow was used for stabilization of discharge. Research on the surface cleaning, surface treatment, and organic matters decomposition using this atmospheric pressure plasma was done. Since the density of the generated plasma was high, activity chemically radicals were generated in high density. High-speed plasma treatment could be performed by this, and the effectiveness of atmospheric pressure H_2O plasma was shown.
开发了利用对环境影响小的水作为等离子体气体的等离子体源。水能有效地吸收微波(2.45 GHz)。设计了常压下等离子体产生的微波谐振腔形式,采用气流稳定放电。利用该常压等离子体进行了表面清洗、表面处理和有机物分解研究。由于生成的等离子体密度高,因此在高密度中产生了活性化学自由基。该方法可用于高速等离子体处理,并证明了常压H_2O等离子体处理的有效性。
项目成果
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专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Plasma surface modification using atmospheric pressure microwave plasma
使用大气压微波等离子体进行等离子体表面改性
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:河井めぐみ;八重真治;福室直樹;松田均;河井めぐみ;小野茂;小野 茂;Shinii Yae;小野茂
- 通讯作者:小野茂
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- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:大貫秀文;高久真治;廣垣和正;角真司堀照夫;Shinji Yae;小野茂
- 通讯作者:小野茂
ATMOSPHERIC PRESSURE MICROWAVE EXCITED H_2O PLASMAAND APPLICATION TO THE SURFACE CLEANING
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- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:小野 茂;他2名
- 通讯作者:他2名
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