Präparation und optische Eigenschaften von Halbleiter- und Metallclustern in Plasmapolymer-Matrizen

等离子体聚合物基体中半导体和金属簇的制备及其光学性质

基本信息

项目摘要

Ein am Fraunhofer-Institut für Angewandte Materialforschung entwickeltes und in diesem Projekt benutztes Zwei-Kammer-Verfahren ermöglicht eine saubere Trennung der Metall- und Halbleiterclusterbildung und des Plasmapolymerisationsprozesses. In der Kammer zur Metallverdampfung wird der Bildungsprozeß der Cluster in der Gasschicht oberhalb der Metalloberfläche vollständig abgeschlossen, bevor die Cluster mit dem Gasstrom in die Plasmazone überführt werden, wo dann die Einbettung der jetzt abgekühlten Cluster in die Matrix stattfindet. Die Teilchengrößen, ihre Verteilung innerhalb der Matrix sowie die Struktur der Matrix werden im Institut für Angewandte und Physikalische Chemie der Universität Bremen mit Methoden der Elektronenoptik, der UV/Vis- und der IR-Spektroskopie analysiert. Nach einer bereits erfolgten weitgehenden Optimierung der Probenpräparation sollen in Weiterführung und Vertiefung der im ursprünglichen Antrag (Förderung im Normalverfahren) vorgesehenen Arbeiten der Einfluß der Teilchendichten innerhalb der Schichten (Füllgrad) und der Matrixzusammensetzung untersucht werden. In Ausweitung der bisher geplanten Arbeiten soll ausgehend von ersten orientierenden Ergebnissen das Potential der mit Clustern beladenen Filme in bezug auf eine Anwendung in der Sensorik ausgelotet werden. Dazu ist geplant, die Metallcluster durch Oxidation in die korrespondierenden Metalloxidcluster zu überführen. Ein zweiter Schwerpunkt soll im Studium der optischen und elektrischen Wechselwirkungen der durch eine isolierende Matrix räumlich voneinander getrennten Metallcluster liegen.
in am fraunhofer - institute forschung entwickeltes and diesem项目:Zwei-Kammer-Verfahren ermöglicht eine saubere Trennung der metal - und halbletercluster构筑和等离子体聚合过程。In der Kammer zur Metallverdampfung wind der der bildungsprozeder Cluster In der Gasschicht oberhalb der Metalloberfläche vollständig abgeschlossen, bever die Cluster mit dem Gasstrom In die Plasmazone <e:2> berfhrt werden, wo dann die Einbettung der jetzt abgekhlten Cluster In die Matrix stattfindet。Die Teilchengrößen, ihre vereilung innerhalb der Matrix, ihre struckturr der Matrix, ihre Verteilung innerhalb dermatrix, ihre struckturr dermatrix, ihre Verteilung innerhalb dermatrix, ihre strucktura dermatrix, ihre andreewander and Physikalische Chemie, ihre andreeandelektronenoptik, ihre UV/Vis- und der IR-Spektroskopie, UniversitätNach einer bereits erfolgten weitgehenden Optimierung der Probenpräparation sollen in weiterf<s:1> hrung und verefung der imurspr<e:1> nglichen Antrag (Förderung im Normalverfahren) vorgesehenen Arbeiten der Einfluß der Teilchendichten innerhalb der Schichten (fllgrad) und der Matrixzusammensetzung untersucht werden。在Ausweitung der bisher - plant - arbebeen - solbebeen - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren - onsteren。大足工厂,模具金属团簇,模具氧化,相应的金属团簇,金属团簇,<s:1> berf<e:1>。在光学和电子学的研究中,在光学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中,在电子学和电子学的研究中。

项目成果

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