课题基金 / 基金详情

温度可変角度分解光電子分光による有機半導体中のキャリア伝導機構の解明

温度可変角度分解光電子分光による有機半導体中のキャリア伝導機構の解明
使用变温角分辨光电子能谱阐明有机半导体中的载流子传导机制
批准号:
09J06359
负责人:
大伴 真名歩
金额:
$0.9万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2010

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
有機半導体は結晶の対称性が低く伝導度が低いため、角度分解光電子分光(ARPES)によってバンド分散を測定し、有効質量やキャリアとフォノンの結合定数といった、キャリアの伝導機構の解明に必要なパラメータを調べた研究が少ない。本研究ではDNTTとDPh-BTBTという新規高移動度有機半導体分子について、エピタキシャル薄膜化と面内の結晶配向の制御、およびARPESによるバンド分散測定を行った。まずARPESに必要な、分子の濡れが良く分子が"立った"配向のエピタキシャル単分子膜を成長できる基板として、高い表面エネルギーを持つアルファ相Bi終端化Si(111)面が適していることを見出した。この時基板表面構造の6回対称を反映して6つの結晶配向ドメインが混ざる。そこで4゜微傾斜させたSi(111)を用い、ステップバンチさせて高さ10nmのステップを作り、その上に膜を成長させたところ、単一配向で成長させることに成功した。この時の配向制御のメカニズムとして、ステップ構造のファセット面にSi(331)などの高指数面が出ており、それが異方成長のテンプレートになっている可能性を提唱した。実際にBi終端化Si(331)面でDNTTが単一配向成長することを確認し、ARPES測定からDNTTが500meV幅の大きなバンド分散を持つことを見出し、有効質量などのパラメータを報告した。このBi終端化Si(331)面は分子のπ軌道との相互作用が小さく、高い伝導度を持ち、対称性の低い表面構造を持つという、有機半導体のARPES用試料の基板として理想的な表面であり、今後この面を用いた研究の進展が期待される。
英文摘要
有機半導体は結晶の対称性が低く伝導度が低いため、角度分解光電子分光(ARPES)によってバンド分散を測定し、有効質量やキャリアとフォノンの結合定数といった、キャリアの伝導機構の解明に必要なパラメータを調べた研究が少ない。本研究ではDNTTとDPh-BTBTという新規高移動度有機半導体分子について、エピタキシャル薄膜化と面内の結晶配向の制御、およびARPESによるバンド分散測定を行った。まずARPESに必要な、分子の濡れが良く分子が"立った"配向のエピタキシャル単分子膜を成長できる基板として、高い表面エネルギーを持つアルファ相Bi終端化Si(111)面が適していることを見出した。この時基板表面構造の6回対称を反映して6つの結晶配向ドメインが混ざる。そこで4゜微傾斜させたSi(111)を用い、ステップバンチさせて高さ10nmのステップを作り、その上に膜を成長させたところ、単一配向で成長させることに成功した。この時の配向制御のメカニズムとして、ステップ構造のファセット面にSi(331)などの高指数面が出ており、それが異方成長のテンプレートになっている可能性を提唱した。実際にBi終端化Si(331)面でDNTTが単一配向成長することを確認し、ARPES測定からDNTTが500meV幅の大きなバンド分散を持つことを見出し、有効質量などのパラメータを報告した。このBi終端化Si(331)面は分子のπ軌道との相互作用が小さく、高い伝導度を持ち、対称性の低い表面構造を持つという、有機半導体のARPES用試料の基板として理想的な表面であり、今後この面を用いた研究の進展が期待される。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: --
发表时间: 2011
期刊: Applied Physics Express
影响因子: 2.3
作者: [M. Ohtomo, K. Itaka, T. Hasegawa, T. Shimada]
通讯作者: T. Shimada
有機半導体エピタキシャル単分子膜の面内配向制御
有机半导体外延单层的面内取向控制
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [大伴真名歩, 長谷川哲也, 島田敏宏]
通讯作者: 島田敏宏
DPh-BTBT単分子薄膜のエピタキシャル成長と電子状態
DPh-BTBT单分子薄膜的外延生长和电子态
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [大伴真名歩, 長谷川哲也, 島田敏宏]
通讯作者: 島田敏宏
スピン素子への応用に向けたグラフェン‐六方晶窒化ホウ素‐磁性金属ヘテロ構造の研究
  • 批准号:
    23860067
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
  • 资助金额:
    $1.91万
  • 财政年份:
    2011
  • 负责人:
    大伴 真名歩
  • 依托单位:
海外基金