The study of fundamental processes of EUV laser ablation and the application toward mask-free nano-fabrication
EUV激光烧蚀基本工艺研究及其在无掩模纳米加工中的应用
基本信息
- 批准号:21360364
- 负责人:
- 金额:$ 6.49万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2009
- 资助国家:日本
- 起止时间:2009 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
We have quantitatively investigated the relation between the energy fluence of the EUV laser and the ablation threshold of substances and have developed key technologies toward nano-fabrication using EUV laser. We also investigated the method to increase the EUV laser power and to expand the wavelength range to shorter wavelength region.
我们已经定量研究了EUV激光的能量通量和物质的烧蚀阈值之间的关系,并开发了使用EUV激光进行纳米加工的关键技术。我们还研究了提高极紫外激光功率和扩大波长范围的方法。
项目成果
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专利数量(0)
Propagation-based phase-contrast enhancement of nanostructure images using a debris-free femtosecond-laser-driven cluster-based plasma soft x-rav source and a LiF crystal detector
使用无碎片飞秒激光驱动的基于簇的等离子体软 x 射线源和 LiF 晶体探测器对纳米结构图像进行基于传播的相衬增强
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Pikuz;et al.
- 通讯作者:et al.
Source development and novel applications of laser-driven plasma X-raylasers in JAEA
JAEA 激光驱动等离子体 X 射线激光器的源开发和新颖应用
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Kawachi;N. Hasegawa;M. Nishikino;M. Ishino;T. Imazono;他18名
- 通讯作者:他18名
Low threshold ablation of dielectrics irradiated by pico-second soft x-ray laser pulses
皮秒软 X 射线激光脉冲照射电介质的低阈值烧蚀
- DOI:10.1063/1.3152290
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Y. Faenov;N. Inogamov;V. Zhakhovskii;V. Khokhlov;K. Nishihara;Y. Kato;M. Tanaka;T. Pikuz;M. Nishikino;M. Ishino;T. Nakamura;Y. Fukuda;S. Bulanov and T. Kawachi
- 通讯作者:S. Bulanov and T. Kawachi
Development and application of plasma x-ray lasers
等离子X射线激光器的研制及应用
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M.Nishikino;et al.
- 通讯作者:et al.
Nanoscale surface modifications and formation of conical structures at aluminum surface induced by single shot exposure of soft x-ray laser pulse
软 X 射线激光脉冲单次曝光诱导铝表面纳米级表面改性和锥形结构形成
- DOI:10.1063/1.3525980
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Ishino;A. Faenov;M. Tanaka;N. Hasegawa;M. Nishikino;S. Tamotsu;T. A. Pikuz;N. A. Inogamov;V. V. Zhakhovsky;I. Yu. Skobelev;V. E. Fortov;V. A. Khohlov;V. V. Shepelev;T. Ohba;T. Kaihori;Y. Ochi;T. Imazono;T. Kawachi
- 通讯作者:T. Kawachi
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- 批准号:
17540476 - 财政年份:2005
- 资助金额:
$ 6.49万 - 项目类别:
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- 资助金额:
$ 6.49万 - 项目类别:
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