权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

SAM及び電子線描画を用いた微細パターン・加工によるグラフェン電子状態制御

使用 SAM 和电子束光刻通过精细图案化和加工来控制石墨烯电子状态

基本信息

批准号：
10J06912
负责人：
横田一道
金额：
$ 1.22万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2010
资助国家：
日本
起止时间：
2010 至 2011
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究の目的は、パターン化された自己組織化単分子(SAM)膜を用い、グラフェンの任意の位置での、任意の電子状態制御を実現することである。本年度は、SAM分子の電気双極子によってグラフェンのキャリア制御が可能であるという昨年度の分光測定結果をもとに、電界効果トランジスタ(FET)デバイスの作製・評価によるグラフェンキャリア制御の実証、SAMのパターン化によるグラフェンの位置選択的な物性制御、及び、これらを融合したグラフェンp-n接合デバイスの作製を行った。シランカップリング剤[NH_2C6H_4-(OCH_3)_3]を用いてSiO_2基板上にNH_2C_6H_4-SAMを作製し、この基板上にへき開法によってグラフェンを転写した。続いて、フォトリソグラフィーと熱蒸着法によってソース・ドレイン電極とバックゲート電極を付け、グラフェン/SAM構造を有するFETデバイスを作製した。このFETデバイスの伝達特性曲線を真空中にて測定した結果、SAMによる基板修飾を反映し、グラフェン上での電子キャリア誘起(2～4×10^<12>/cm^2)が確認された。これは、昨年度のラマン分光結果と一致する傾向である。次いで、フォトリソグラフィー手法を応用してSAM修飾領域をパターン化することにより、グラフェン/パターン化SAM試料を作製し、ラマンスペクトルのマッピングを行った。この測定により、SAM上のグラフェンに選択的に電子キャリアが誘起されていることが明らかとなった。更に、これらの手法を融合させ、SAMにより位置選択的にキャリア制御されたグラフェンデバイスの作製・評価を行ったところ、p-n接合の形成が観測された。以上の結果は、基板の分子修飾という簡便かつ自由度の高い手法により、任意の位置でのグラフェンのキャリア制御を実証したものであり、グラフェンの電子デバイス応用の観点からも重要な成果であると考えられる。

The purpose of this study is to realize the application of self-organized monomer (SAM) films in arbitrary positions and arbitrary electronic state control. This year, the SAM molecule's electric dipole structure can be separated from the control of the possibility, in the middle of last year's spectroscopic measurement results, the electric field effect of the FET (FET) structure of the production·evaluation, the SAM structure of the structure can be separated from the control of the physical properties of the position selection, and the production of the p-n junction. NH_2C_6H_4-SAM on SiO_2 substrate was prepared by using NH_2C_6H_4-(OCH_3)_3 as catalyst. The FET device is manufactured by the thermal evaporation method, the solvent extraction method, the solvent extraction method and the solvent extraction method. The FET emission characteristic curve was measured in vacuum, and the electron emission (2~4×10^<12>/cm^2) on the SAM substrate was confirmed. The results of spectroscopy in the past year are consistent. For example, if you want to use SAM, you can use SAM to modify the sample. This measurement is based on the electron density of the SAM. In addition, the formation of p-n junction is measured by the method of fusion, SAM and position selection. The above results show that the molecular modification of the substrate is simple, the degree of freedom is high, the control of the substrate is arbitrary, and the electronic modification of the substrate is easy.