一次元伝導FET実現のための諸構造Siナノワイヤのバンド構造解析
用于实现一维传导FET的各种结构Si纳米线的能带结构分析
基本信息
- 批准号:10J08754
- 负责人:
- 金额:$ 0.9万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
1.キャリアの低電界移動度の断面分布解析を行った。バリスティック伝導に近づけるためにはキャリアの散乱過程をなるべく減らす必要がある。キャリア伝導の断面分布解析を解析し、長方形ナノワイヤMOSFETの角が及ぼす影響等を評価した。この結果は今年度、Journal of Applied Physicsにて掲載された。2.バリスティック輸送時のナノワイヤMOSFET性能のナノワイヤ太さ依存性を、[100]方向の伝導方向を持つ円筒型SiナノワイヤMOSFETとInAsナノワイヤMOSFETに対して調べた。バリスティック輸送特性は限界性能を見出し、性能比較においてよい指標になれる。性能の直径依存を調べるために細線効果に伴う量子効果の影響をちゃんと扱うことの出来るゲート容量モデルを作成した。性能評価はゲート容量、オン電流、注入速度、真性ゲート遅延時間、消費電力の側面から行われた。その結果高性能・低消費電力が得られる最適な太さはSiナノワイヤMOSFET、InAsナノワイヤMOSFET、いずれも10nm以下であることを明らかにした。この成果はIEEE Transaction on Electron Devicesに投稿し、掲載に前向きな査読結果を受けている。3.極限まで微細化されたナノワイヤMOSFETでも完全なバリスティック輸送を得ることは難しいことが知られている。従って、定量的な電流の評価のためにはちゃんとしたモデリングが必要だ。指導教員の一人である名取研二教授の準バリスティックモデルを発展させ、電流を正しく評価できるモデルを作り、数値シミュレーションによる検証を行った。この研究の一部は、University of BolognaのGiorgio Baccarani教授のグループと共同で行われた。
1. Analysis of the profile distribution of the low electric mobility of the film. The most important thing is to reduce the complexity of the process. Analysis of cross-section distribution of rectangular MOSFET and evaluation of its influence The results were published in the Journal of Applied Physics. 2. The MOSFET performance depends on the transmission time, the [100] direction and the conduction direction. The cylindrical Si MOSFET and InAs MOSFET are tuned. Transportation characteristics and performance limits are shown and compared. Performance depends on the diameter of the wire. Performance evaluation includes capacity, current, injection speed, true delay time, and bottom line of power consumption. As a result, high performance and low power consumption can be achieved with the most suitable semiconductors, such as Si Naomi MOSFET, InAs Naomi MOSFET, and Iris MOSFET below 10nm. The results of IEEE Transaction on Electron Devices were submitted and published. 3. The limit is to miniaturize the MOSFET and completely transfer the power. A quantitative evaluation of current is necessary. The instructor is the second professor of the university, and the current evaluation is the first to be evaluated. A part of this research, Professor Giorgio Baccarani of the University of Bologna
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
バリスティックSiナノワイヤMOSFETの注入速度の直径依存におけるキャリア縮退の影響
弹道硅纳米线 MOSFET 中载流子简并度对注入速率直径依赖性的影响
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:李映勲;角嶋邦之;名取研二;岩井洋
- 通讯作者:岩井洋
Corner effects on phonon-limited mobility in rectangular silicon nanowire metal-oxide-semiconductor field-effect transistors based on spatially resolved mobility analysis
基于空间分辨迁移率分析的矩形硅纳米线金属氧化物半导体场效应晶体管中声子限制迁移率的角效应
- DOI:10.1063/1.3592252
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:Y.Lee;K.Kakushima;K.Natori;H.Iwai
- 通讯作者:H.Iwai
矩形断面SiナノワイヤMOSFETにおけるフォノン散乱に制限された移動度のサイズ依存性
矩形截面硅纳米线 MOSFET 中声子散射受限迁移率的尺寸依赖性
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:細田倫央;李映勲;角嶋邦之;パールハット アヘメト;筒井一生;西山彰;杉井信之;名取研二;岩井洋
- 通讯作者:岩井洋
Cross-Sectional Distribution of Phonon-Limited Electron Mobility in Rectangular Silicon Nanowire Field Effect Transistors
矩形硅纳米线场效应晶体管中声子受限电子迁移率的横截面分布
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y.Lee;K.Kakushima;K.Natori;H.Iwai
- 通讯作者:H.Iwai
Size-dependent properties of ballistic silicon nanowire field effect transistors
- DOI:10.1063/1.3388324
- 发表时间:2010-06
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:Yeonghun Lee;K. Kakushima;K. Shiraishi;K. Natori;H. Iwai
- 通讯作者:Yeonghun Lee;K. Kakushima;K. Shiraishi;K. Natori;H. Iwai
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