ナノトライボロジー研究のためのエネルギー散逸顕微鏡の開発
ナノトライボロジー研究のためのエネルギー散逸顕微鏡の開発
批准号:
10J09787
负责人:
小林 甫
金额:
$0.9万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2010
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2010 至 2011
中文摘要
本研究は、(1)高精度の水晶マイクロバランス(QCM)測定技術と、測定位置を定め、水平力を測定する接触型原子間力顕微鏡(AFM)の技術を組み合わせたエネルギー散逸顕微鏡を開発と、(2)単結晶基板上の希ガス吸着膜のQCM測定を行い,動摩擦のエネルギー散逸の滑り距離依存性と,動摩擦の基板及び吸着膜依存性の知見を得ることを目的とする.以下に主な成果を述べる.(1)引き続き,顕微鏡の動作確認として,様々な基板振幅でHOPG(高配向熱分解黒鉛)試料についてエネルギー散逸を測定した.エネルギー散逸はグラファイトの格子定数程度の基板振幅で最大となり,その振幅を境にエネルギー散逸の振る舞いの傾向が変化する.このことから、エネルギー散逸に関わる何らかの典型的な長さが存在していることが示唆される.(2)液体窒素温度にてマイカ基板上のKr吸着膜の滑り摩擦のQCM実験を行った.マイカ基板のa軸に対して平行に振動するもの(試料A),30°傾いた方向に振動するもの(試料B)を用意し,滑り方向依存性と基板振幅依存性に注目して,2つの試料に対して共振振動数の面密度依存性を調べた.測定の結果,基板振幅が0.4nmのとき,試料Aを用いた測定では,単層のKr/Micaは基板振動にほとんど追従しない.一方,試料Bを用いた測定では,よく追従する.さらに,基板振幅が4nmのときは,どちらの試料の測定でも,単層のKr/Micaは基板振動にほとんど追従しない.これらの結果より,Kr/Micaの滑り運動は,基板振幅と運動方向の次の吸着サイトまでの距離の関係に強く影響を受けることが明らかとなった.
英文摘要
本研究は、(1)高精度の水晶マイクロバランス(QCM)測定技術と、測定位置を定め、水平力を測定する接触型原子間力顕微鏡(AFM)の技術を組み合わせたエネルギー散逸顕微鏡を開発と、(2)単結晶基板上の希ガス吸着膜のQCM測定を行い,動摩擦のエネルギー散逸の滑り距離依存性と,動摩擦の基板及び吸着膜依存性の知見を得ることを目的とする.以下に主な成果を述べる.(1)引き続き,顕微鏡の動作確認として,様々な基板振幅でHOPG(高配向熱分解黒鉛)試料についてエネルギー散逸を測定した.エネルギー散逸はグラファイトの格子定数程度の基板振幅で最大となり,その振幅を境にエネルギー散逸の振る舞いの傾向が変化する.このことから、エネルギー散逸に関わる何らかの典型的な長さが存在していることが示唆される.(2)液体窒素温度にてマイカ基板上のKr吸着膜の滑り摩擦のQCM実験を行った.マイカ基板のa軸に対して平行に振動するもの(試料A),30°傾いた方向に振動するもの(試料B)を用意し,滑り方向依存性と基板振幅依存性に注目して,2つの試料に対して共振振動数の面密度依存性を調べた.測定の結果,基板振幅が0.4nmのとき,試料Aを用いた測定では,単層のKr/Micaは基板振動にほとんど追従しない.一方,試料Bを用いた測定では,よく追従する.さらに,基板振幅が4nmのときは,どちらの試料の測定でも,単層のKr/Micaは基板振動にほとんど追従しない.これらの結果より,Kr/Micaの滑り運動は,基板振幅と運動方向の次の吸着サイトまでの距離の関係に強く影響を受けることが明らかとなった.
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マイカ基板上のKr吸着膜の界面摩擦II
云母基体上Kr吸附膜的界面摩擦力II
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H.Kobayashi, J.Taniguchi, M.Suzuki, K.Miura, I.Arakawa, 小林甫]
通讯作者:
小林甫
単結晶グラファイト基板上のXe吸着膜の界面摩擦
单晶石墨基板上Xe吸附膜的界面摩擦
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H.Kobayashi, J.Taniguchi, M.Suzuki, K.Miura, I.Arakawa, 小林甫, 小林甫, 小林甫, 小林甫]
通讯作者:
小林甫
マイカ基板上のKr吸着膜の界面摩擦
云母基体上Kr吸附膜的界面摩擦
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H.Kobayashi, J.Taniguchi, M.Suzuki, K.Miura, I.Arakawa, 小林甫, 小林甫]
通讯作者:
小林甫
単結晶グラファイト基板上のKr吸着膜の界面摩擦IV
单晶石墨基体上Kr吸附膜的界面摩擦IV
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H.Kobayashi, J.Taniguchi, M.Suzuki, K.Miura, I.Arakawa, 小林甫, 小林甫, 小林甫, 小林甫, 小林甫]
通讯作者:
小林甫
Mechanical Response of 4^He Films Adsorbed on Graphite with a Quartz Tuning Fork
石英音叉吸附在石墨上的 4^He 薄膜的机械响应
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
Journal of Low Temperature Physics
影响因子:
2
作者:
[F. Nihei, K. Ideura, H. Kobayashi, J. Taniguchi, M. Suzuki]
通讯作者:
M. Suzuki
共 7 条
地域社会構造変動と諸階層の生活-教育要求に関する基礎的研究
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批准号:X00210----171040
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.17万
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财政年份:1976
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负责人:小林 甫
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依托单位:
海外基金