Creation of Shearchromism Generated by Shear Stress and Light

由剪切应力和光产生的剪切变色现象

• 批准号: 22550130
• 负责人: INOKUCHI Makoto
• 金额: $ 3.16万
• 依托单位: Tokyo University of Science, Yamaguchi
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22550130/
• 关键词: ずれ応力; 高圧実験; フォトクロミズム; メカノクロミズム; 赤外ラマンスペクトル; スピロピラン; ジアリールエテン; アゾベンゼン; 剪断歪み; ラマンスペクトル; 高圧; 赤外スペクトル; 異性化

The purpose of this study is to create the "Shearchromism" which is able to control the photochromic properties by the application of shear stress coupled with the light irradiation. In order to investigate the molecular structures of photochromic compounds, we have performed the in situ observations under microscope with spectroscopic measurements. For nitrospiropyrans, the photoisomerization between open and closed-ring isomers was suppressed by the shear stress and its response was depended on the molecular shape. For diarylethene of PFCP, it was suggested that the photochromic behavior could be adjusted by the effect of shear stress and light. For azobenzene derivative, the Raman spectra suggest that the shear stress acts the molecules in the crystals in the same way as light irradiation.

本研究的目的是创造“剪切变色”，这是能够控制的光致变色性能的剪切应力加上光照射的应用。为了研究光致变色化合物的分子结构，我们在显微镜下进行了原位观察和光谱测量。对于硝基螺吡喃，开环和闭环异构体之间的光异构化反应受到剪切应力的抑制，其响应依赖于分子的形状。对于二芳基乙烯类聚合物，光致变色行为可以通过剪切力和光的作用来调节。对于偶氮苯衍生物，拉曼光谱表明剪切应力以与光照射相同的方式作用于晶体中的分子。

项目成果

ジアリールエテンに対するずれ応力効果

剪切应力对二芳基乙烯的影响

• 发表时间: 2011
• 作者: K.Tsunashima;A.Kawabata;M.Matsumiya;S.Kodama;R.Enomoto;M.Sugiya;Y.Kunugi;井上健・井口眞
• 通讯作者: 井上健・井口眞

Shear Stress Effects on Spiropyrans

剪切应力对螺吡喃的影响

• 发表时间: 2010
• 作者: Makoto Inokuchi;el al.
• 通讯作者: el al.

ジアリールエテンCMTEのフォトクロミズムに対するずれ応力効果

剪切应力对二芳基乙烯CMTE光致变色的影响

• 发表时间: 2012
• 作者: 井上健,;井口眞
• 通讯作者: 井口眞

Shear Stress Effectson Photochromic Diarylethens and Spiropyrans

剪切应力对光致变色二芳基乙烯和螺吡喃的影响

• 发表时间: 2012
• 作者: 井上健;井口眞
• 通讯作者: 井口眞

ジアリールエテンに対する応力効果(16)(17)

应力对二芳基乙烯的影响 (16)(17)

• 发表时间: 2011
• 作者: K.Tsunashima;A.Kawabata;M.Matsumiya;S.Kodama;R.Enomoto;M.Sugiya;Y.Kunugi;井上健・井口眞;井上健・井口眞
• 通讯作者: 井上健・井口眞