Investigation into the codeposition mechanism of carbon nanotube composite plating

碳纳米管复合镀层共沉积机理研究

• 批准号: 22560715
• 负责人: ARAI Susumu
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Shinshu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22560715/
• 关键词: 複合めっき; カーボンナノチューブ; 共析メカニズム; 共析量; Guglielmi理論; 繊維状形状; 銅; ゼータ電位; 分散; 共析; CNT濃度; 絡まり効果; CNT含有量

Codeposition behaviors of carbon nanotubes (CNTs) with metals from plating baths have been investigated to elucidate CNT composite plating mechanism. Homogeneous dispersion of CNTs in the plating baths was important to fabricate CNT composite plating films with homogeneous CNT distribution. The mechanism of the CNT composite plating was studied using Guglielmi’s two-step adsorption theory. It was suggested that the fibrous shape of the CNTs might affect the CNT contents in the plating films.

为阐明碳纳米管复合电镀机理，研究了碳纳米管与镀液中金属的共沉积行为。碳纳米管在镀液中的均匀分散是制备具有均匀分布的碳纳米管复合镀膜的关键。用Guglielmi的两步吸附理论研究了碳纳米管复合电镀的机理。结果表明，碳纳米管的纤维形状可能会影响镀膜中碳纳米管的含量。

项目成果

Cu/CNT複合めっきに与えるポリアクリル酸の影響

聚丙烯酸对Cu/CNT复合镀层的影响

• 发表时间: 2011
• 作者: 加藤暁博,鈴木陽介,遠藤守信,新井 進

Cu/CNT複合めっきの共析メカニズムの解明

Cu/CNT复合镀层共析机理的阐明

• 发表时间: 2012
• 作者: Y. Kudo;Z. Zhang;M. Kawamura;Y. Abe;K. H. Kim;加藤暁博,新井 進
• 通讯作者: 加藤暁博,新井 進

ピロリン酸浴からのスズ/カーボンナノチューブ複合めっき膜の作製

焦磷酸盐浴制备锡/碳纳米管复合镀膜

• 发表时间: 2012
• 作者: T.Oku.T.Kitao;A.Mizuno;A.Suzuki;K.Kikuchi;福岡良介,新井 進
• 通讯作者: 福岡良介,新井 進

Cu/Multiwalled Carbon Nanotube Composite Films Fabricated by Pulse-Reverse Electrodeposition

• DOI: 10.1149/1.3518414
• 发表时间: 2011-02
• 期刊: Journal of The Electrochemical Society
• 影响因子: 3.9
• 作者: S. Arai;Y. Suwa;M. Endo

異なるサイズのCNTを含有する無電解Cu/CNT複合めっき膜の作製

含不同尺寸CNT的化学镀Cu/CNT复合镀膜的制备

• 发表时间: 2012
• 作者: T. Oku;A. Nagata;A. Takeda;A. Minowa;A. Suzuki;K. Kikuchi;Y. Yamasaki and E. osawa;奥健夫;大崎拓真,新井 進
• 通讯作者: 大崎拓真,新井 進