High sensitive sensor based on plasmonic electric field enhancement effect induced by nanogap array structures

基于纳米间隙阵列结构等离子体电场增强效应的高灵敏度传感器

• 批准号: 22710110
• 负责人: KUBO Wakana
• 金额: $ 2.58万
• 依托单位: The Institute of Physical and Chemical Research
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22710110/
• 关键词: プラズモニックセンサー; ギャップ構造体; 微細加工; プラズモン電場増強効果; フレキシブルディスポーサブルセンサーチップ; プラズモンセンサー; 金属ナノ構造体; ナノギャップ構造体; プラズモン; 微細加工技術; フレキシブル

Au double nanopillars(DNPs) with a gap of several tens of nanometer were fabricated on a large substrate through nanocoating lithography technique. Au DNPs showed plasmon resonances from visible to near IR wavelength. Those peaks shifted to longer wavelength region by changing surrounding refractive indices, indicating an Au DNPs function as a plasmonic sensor with a sensitivity of 1075 nm/refractive index sensitivity.

采用纳米涂层光刻技术在大衬底上制备了间距为几十纳米的Au双纳米柱。Au DNP显示从可见光到近红外波长的等离子体共振。通过改变周围的折射率，这些峰向更长的波长区域移动，表明Au DNP用作具有1075 nm/折射率灵敏度的等离子体传感器。

项目成果

プラズモニクス-光・電子デバイス開発最前線-

等离子体激元 - 光学和电子器件开发的前沿 -

• 发表时间: 2011
• 作者: 秋山毅;他
• 通讯作者: 他

ナノコーティングリソグラフィーによる金二重ナノピラー配列の作製とプラズモンセンサーへの展開

纳米涂层光刻法制备金双纳米柱阵列及其在等离子体传感器中的应用

• 发表时间: 2011
• 期刊: 未来材料
• 作者: 久保若奈;藤川茂紀
• 通讯作者: 藤川茂紀

Au double nanopillars with gap for plasmonic sensor

用于等离子体传感器的带间隙的金双纳米柱

• 发表时间: 2011
• 作者: 保若奈;田中拓男,藤川茂紀
• 通讯作者: 田中拓男,藤川茂紀

Au double nanopillars with gap for ultrasensitve plasmonic sensor

用于超灵敏等离子体传感器的带间隙金双纳米柱

• 发表时间: 2010
• 作者: W.Kubo;T.Tanaka;S.Fujikawa
• 通讯作者: S.Fujikawa

Au Double Nanopillars with Nanogap for Plasmonic Sensor

• DOI: 10.1021/nl100787b
• 发表时间: 2011-01-01
• 期刊: NANO LETTERS
• 影响因子: 10.8
• 作者: Kubo, Wakana;Fujikawa, Shigenori
• 通讯作者: Fujikawa, Shigenori