Development of De-molding Agent-Free Resin Mold for UV Nanoimprint

UV纳米压印无脱模剂树脂模具的研制

• 批准号: 23655218
• 负责人: SHIRAI Masamitsu
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: Osaka Prefecture University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23655218/
• 关键词: UVインプリント; 樹脂モールド; レプリカモールド; 離型剤フリー; 分解性光硬化樹脂; 複製樹脂モールド; 分解型光硬化樹脂; ＵＶインプリント; 表面特性

The fouling of the quartz mold during the UV imprint process is a serious problem. A process for making the replicated resin mold was established. Furthermore, the replicated resin mold which was not required a treatment with de-molding agent was devised. A relationship between the surface property of the reinmold and that of the UV cured resin surface was evaluated.

在UV压印过程中石英模具的污染是一个严重的问题。建立了复制树脂模具的制造工艺。此外，设计了不需要用脱模剂处理的复制树脂模具。评价再模塑的表面性质与UV固化树脂表面的表面性质之间的关系。

项目成果

Novel Resin Mold for UV nanoimprint: A Demolding Agent Free System

用于 UV 纳米压印的新型树脂模具：无脱模剂系统

• 发表时间: 2011
• 作者: Yuki Kimura;K.K. Tanaka;H. Miura;K. Tsukamoto;M. Shirai;M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai

リワーク型多官能メタクリラートのＵＶインプリント材料への応用

改性多功能甲基丙烯酸酯在UV压印材料中的应用

• 发表时间: 2011
• 作者: 松川大作;村上雄基;岡村晴之;白井正充
• 通讯作者: 白井正充

Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography

新型可降解单体及其在紫外压印光刻中的应用

• 发表时间: 2011
• 作者: Jun Nozawa;Katsuo Tsukamoto;Willem van Enckevort;Tomoki Nakamura;Yuki Kimura, Hitoshi Miura;Hisao Satoh,Ken Nagashima;Makoto Konoto;M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai

Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin: Application to Novel Resin Mold for UV Imprint

用于固化树脂表面改性的光酸和光碱生成单体：在新型 UV 压印树脂模具中的应用

• DOI: 10.2494/photopolymer.25.735
• 发表时间: 2012
• 期刊: Journal of Photopolymer Science and Technology
• 影响因子: 0.8
• 作者: S. Horii;Keisuke Yamane;Haruyuki Okamura;M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai

離型剤フリーなUVインプリント用モールドのための樹脂材料

UV压印模具用无脱模剂树脂材料

• 发表时间: 2011
• 作者: 浦川理;信川省吾;四方俊幸;井上正志;阿久津恵一;堀井俊哉
• 通讯作者: 堀井俊哉