Fabrication of anti - reflection structures on thermoelectric thin films
Fabrication of anti - reflection structures on thermoelectric thin films
热电薄膜抗反射结构的制作
批准号：
23760706
负责人：
MIZOSHIRI Mizue
金额：
$2.83万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2011 至 2012
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英文摘要
In this study, anti-reflection structures were fabricated on thermoelectric thin films which have high reflection efficiency of solar light. The reflection efficiency of the thin films could be reduced. Furthermore, the anti-reflection structures were int
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DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
[飯島志行, 久留宮晶, 神谷秀博, 溝尻瑞枝,三上祐史,尾崎公洋]
通讯作者：
溝尻瑞枝,三上祐史,尾崎公洋
DOI：
10.1143/jjap.51.06fl07
发表时间：
2012-06-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子：
1.5
作者：
[Mizoshiri, Mizue, Mikami, Masashi, Ozaki, Kimihiro]
通讯作者：
Ozaki, Kimihiro
ターゲット加熱型高速スパッタ成膜法による熱電厚膜の作製
靶材加热高速溅射沉积法制备热电厚膜
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DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
Proceedings of the 27th Sensor Symposium on Sensors, Micromachines and Applied System
影响因子：
--
作者：
[M. Mizoshiri, M. Mikami, K. Ozaki, K. Kobayashi, 溝尻瑞枝]
通讯作者：
溝尻瑞枝
耐熱マスクを用いた熱電厚膜のリフト・オフパターニング
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DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
[飯島志行, 田嶋真一, 山崎美和, 神谷秀博, 溝尻瑞枝,三上祐史,尾崎公洋]
通讯作者：
溝尻瑞枝,三上祐史,尾崎公洋
耐熱マスクを用いた熱電厚膜のリフト･オフパターニング
使用耐热掩模的热电厚膜剥离图案化
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DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
[木村窓香, 神谷秀博, 飯島志行, 溝尻 瑞枝]
通讯作者：
溝尻 瑞枝
共 11 条