Development of efficient water window x-ray band-emission source by high-Z highly ionized ions
高Z高电离离子高效水窗X射线带发射源的开发
基本信息
- 批准号:24560038
- 负责人:
- 金额:$ 3.41万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2012
- 资助国家:日本
- 起止时间:2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Sources for beyond extreme ultraviolet lithography and water window imaging
- DOI:10.1088/0031-8949/90/5/054002
- 发表时间:2015-04
- 期刊:
- 影响因子:2.9
- 作者:G. O’Sullivan;Bowen Li;P. Dunne;P. Hayden;D. Kilbane;R. Lokasani;E. Long;H. Ohashi;F. O’Reilly;J. Sheil;P. Sheridan;E. Sokell;C. Suzuki;E. White;T. Higashiguchi
- 通讯作者:G. O’Sullivan;Bowen Li;P. Dunne;P. Hayden;D. Kilbane;R. Lokasani;E. Long;H. Ohashi;F. O’Reilly;J. Sheil;P. Sheridan;E. Sokell;C. Suzuki;E. White;T. Higashiguchi
A microplasma high-brightness EUV source at 13.5 nm
13.5 nm 微等离子体高亮度 EUV 光源
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Goki Arai;Hiroyuki Hara;Yuhei Suzuki;Thanh Hung Dinh;and Takeshi Higashiguchi
- 通讯作者:and Takeshi Higashiguchi
Radiation hydrodynamic simulation of a high-brightness 13.5-nm EUV microplasma by use of a dot target
使用点靶对高亮度 13.5 nm EUV 微等离子体进行辐射流体动力学模拟
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hiroyuki Hara;Goki Arai;Yuhei Suzuki;Hayato Ohashi;Takeshi Higashiguchi;and Atsushi Sunahara
- 通讯作者:and Atsushi Sunahara
Dynamics of the ultrashort laser pulse in a capillary discharge-preformed argon plasma channel
毛细管放电氩等离子体通道中超短激光脉冲的动力学
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takeshi Higashiguchi;Nadezhda Bobrova;Shohei Sakai;Noboru Yugami;Yasuhiko Sentoku;and Ryosuke Kodama
- 通讯作者:and Ryosuke Kodama
Characteristics of 6.X-nm Beyond EUV sources
6.X-nm Beyond EUV 光源的特性
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:日隈康裕;茶円豊;姜海松;木津昴明;萩尾拓真;中村誠希;田島章雄;浜本貴一;Takeshi Higashiguchi
- 通讯作者:Takeshi Higashiguchi
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HIGASHIGUCHI Takeshi其他文献
Stimulated emission depletion phenomenon in luminescence of Ce:LSO excited by soft X-rays
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- 影响因子:0
- 作者:
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HIGASHIGUCHI Takeshi
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