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Nanocrystalline Silicon Films Prepared by Supersonic Free-Jet PVD
超音速自由喷射PVD制备纳米晶硅薄膜
基本信息
- 批准号：24560891
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2012
- 资助国家：日本
- 起止时间：2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
活性プラズマ－金属反応を組み入れた超音速フリージェットPVDによるAlN膜の形成
通过结合活性等离子体-金属反应的超音速自由喷射 PVD 形成 AlN 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K.Fukuoka;I.Kawagoe;湯本敦史，前野由香里，永山勝久，丹羽直毅
- 通讯作者：湯本敦史，前野由香里，永山勝久，丹羽直毅
超音速フリージェットPVDによるナノ結晶Fe-Co軟磁性膜の形成
超音速自由喷射PVD形成纳米晶Fe-Co软磁薄膜
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K.Fukuoka;I.Kawagoe;湯本敦史，前野由香里，永山勝久，丹羽直毅;福岡克弘;潮田彩，湯本敦史，永山勝久，中村勲，竹澤勉，丹羽直毅
- 通讯作者：潮田彩，湯本敦史，永山勝久，中村勲，竹澤勉，丹羽直毅
超音速フリージェットPVDによる次世代リチウムイオン二次電池用Si負極の充放電時の電流密度の影響
超音速自由喷射PVD下一代锂离子二次电池硅负极充放电过程中电流密度的影响
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：福岡克弘;小林正樹;尾崎智裕;及川芳朗;榊 和彦，中村 純一，中西 良太，湯本 敦史
- 通讯作者：榊 和彦，中村 純一，中西 良太，湯本 敦史
超音速フリージェットPVDによるNd-Fe系膜の膜組成が及ぼす磁気特性への影響
超音速自由喷射PVD法制备Nd-Fe基薄膜磁性能的影响
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K.Fukuoka;I.Kawagoe;湯本敦史，前野由香里，永山勝久，丹羽直毅;福岡克弘;潮田彩，湯本敦史，永山勝久，中村勲，竹澤勉，丹羽直毅;小林英仁，湯本敦史，永山勝久，中村勲，竹澤勉，丹羽直毅
- 通讯作者：小林英仁，湯本敦史，永山勝久，中村勲，竹澤勉，丹羽直毅
超音速フリージェットPVDによる次世代リチウムイオン二次電池用Si負極の作製と評価
利用超音速自由喷射PVD制备下一代锂离子二次电池硅负极
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：N.Kasai;A.Takada and K.Fukuoka;中西 良太，榊 和彦，中村 純一，湯本 敦史
- 通讯作者：中西 良太，榊 和彦，中村 純一，湯本 敦史
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