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シラトランを単位構造に持つイオン伝導性ケイ素ポリマーの創製

以硅四烷为单元结构的离子导电硅聚合物的制备

基本信息

批准号：
24750111
负责人：
水雲智信
金额：
$ 3万
依托单位：
Hiroshima University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2012
资助国家：
日本
起止时间：
2012-04-01 至 2014-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24750111/
关键词：
シラトランイオン伝導ケイ素ポリマーイオン伝導性

项目摘要

高配位ケイ素化合物であるシラトランが、その極性によってリチウム塩を解離させ、イオン伝導性を発現するとの研究成果をもとに、シラトランを単位構造としたケイ素ポリマーの合成とイオン伝導特性について検討した。前年度に引き続き、オリゴシロキサン鎖上にシラトラン構造を導入した一連の系を検討し、ガラス転移温度を大きく低下させることで高いイオン伝導度の発現が可能となることを明らかにした。末端にシラトラン構造を導入したオリゴマーが最も高いイオン伝導度(> 10E-5 S cm-1)を発現し、リチウムイオン輸率(0.7)、広い電位窓(5.4V) の優れた電気化学的特性も有していることを見出した。このポリマーの耐熱性は10℃/min 昇温条件下で300℃以上の値が得られ、長時間保持条件でも150℃まで安定であった。一方、シロキサンの側鎖にシラトラン構造を導入した場合にはガラス転移温度の大きな上昇が生じ、イオン伝導性に乏しい材料となることも明らかにした。当該年度は、新しくシラトラン構造が規則的に配置されたポリマーとしてかご型シルセスキオキサン（POSS）上にシラトラン構造を導入し、イオン伝導性について検討した。オクタビニルシルセスキオキサンおよびビニルシラトランを、テトラメチルジシロキサンを用いたヒドロシリル化反応によってリンクさせることにより、POSS上にシラトラン構造を固定した化合物を得た。得られた化合物は室温で粘性の液体であり、リチウムトリフレートやリチウムビストリフルオロメチルスルホニルアミドなどのリチウム塩を解離させた。

High coordination compounds, high coordination compounds, high coordination compounds, In the previous year, in the previous year, there was an increase in the temperature of the system, and the temperature was very low in the previous year. At the end of the circuit, the highest temperature temperature (& gt; 10E-5 S cm-1) is detected, and the temperature potential (5.4V) has the characteristics of high temperature electrochemistry. The temperature tolerance is 10 ℃