Fabrication of plasmonic circuits by the selective immobilization of nanoparticles using a focused electron beam-induced deposition technique

使用聚焦电子束诱导沉积技术通过选择性固定纳米粒子来制造等离子体电路

• 批准号: 25390032
• 负责人: SHIMOJO Masayuki
• 金额: $ 3.24万
• 依托单位: Shibaura Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2016-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25390032/
• 关键词: ナノ粒子; 配列; プラズモン; 電子線; プラズモニック導波路; 表面プラズモン共鳴; 金ナノ粒子; パターニング

项目成果

Auナノ粒子の配置と電子線照射によるパターニング法

使用Au纳米颗粒排列和电子束照射的图案化方法

• 发表时间: 2015
• 作者: 乘木貴宏;梶川浩太郎;下条雅幸
• 通讯作者: 下条雅幸

電子線照射による金ナノ粒子の固定

电子束照射固定金纳米颗粒

• 发表时间: 2013
• 作者: 阿部翔吾;下条雅幸
• 通讯作者: 下条雅幸

Fabrication of nanostructures using focused electron beams

使用聚焦电子束制造纳米结构

• 发表时间: 2015
• 作者: 乘木 貴宏;梶川 浩太郎;下条 雅幸;M. Shimojo
• 通讯作者: M. Shimojo

Auナノ粒子の二次元配列と電子線照射による粒子の固定

Au纳米粒子的二维阵列和电子束照射的粒子固定

• 发表时间: 2014
• 作者: 乘木貴宏;阿部翔吾;下条雅幸
• 通讯作者: 下条雅幸

A patterning technique for gold nanoparticles on silicon substrates using focused electron beams

使用聚焦电子束在硅基板上形成金纳米粒子的图案化技术

• 发表时间: 2014
• 作者: T. Noriki;M. Shimojo
• 通讯作者: M. Shimojo