Liquid cluster ion beam processing of metal films for spintronics devices

自旋电子器件金属薄膜的液态团簇离子束加工

• 批准号: 15K06015
• 负责人: Ryuto Hiromichi
• 金额: $ 3.24万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2015-04-01 至 2018-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K06015/
• 关键词: クラスター; イオンビーム; スピントロニクス; マグネトロン; スパッタリング; 遷移金属; アルコール; ビーム応用; 表面加工; 薄膜; プロセッシング

项目成果

イオン液体EMIM-BF4 イオンビームの固体表面照射効果

离子液体 EMIM-BF4 离子束辐照对固体表面的影响

• 发表时间: 2016
• 作者: 西和哉;上田弘貴;藤井志貴;竹内光明;龍頭啓充;高岡義寛
• 通讯作者: 高岡義寛

Characterization by transmission electron microscopy and small-angle X-ray scattering of Au clusters formed in ionic liquids

通过透射电子显微镜和小角 X 射线散射对离子液体中形成的金簇进行表征

• DOI: 10.1002/sia.6132
• 发表时间: 2016
• 期刊: Surface and interface analysis
• 影响因子: 1.7
• 作者: G. H. Takaoka;Y. Matsumoto;M. Takeuchi;H. Ryuto
• 通讯作者: H. Ryuto

液体クラスターイオンビームの遷移金属薄膜への照射効果

液态团簇离子束对过渡金属薄膜的辐照效果

• 发表时间: 2017
• 作者: 清水友規;清水大貴;竹内光明;龍頭啓充
• 通讯作者: 龍頭啓充

Sputtering, oxidation, and photon emission induced by liquid cluster ion collision

液体簇离子碰撞引起的溅射、氧化和光子发射

• 发表时间: 2016
• 作者: H. Ryuto;M. Takeuchi;F. Musumeci;G. H. Takaoka
• 通讯作者: G. H. Takaoka

Sputtering of silicon and glass substrates with polyatomic molecular ion beams generated from ionic liquids

使用离子液体产生的多原子分子离子束溅射硅和玻璃基板

• DOI: 10.1116/1.4942996
• 发表时间: 2016
• 期刊: J. Vac. Sci. Technol. A
• 作者: M. Takeuchi;Y. Hoshide;H. Ryuto;G. H. Takaoka
• 通讯作者: G. H. Takaoka