Liquid cluster ion beam processing of metal films for spintronics devices
Liquid cluster ion beam processing of metal films for spintronics devices
自旋电子器件金属薄膜的液态团簇离子束加工
批准号：
15K06015
负责人：
Ryuto Hiromichi
金额：
$3.24万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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イオン液体EMIM-BF4 イオンビームの固体表面照射効果
离子液体 EMIM-BF4 离子束辐照对固体表面的影响
离子液体 EMIM-BF4 离子束辐照对固体表面的影响
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[西和哉, 上田弘貴, 藤井志貴, 竹内光明, 龍頭啓充, 高岡義寛]
通讯作者：
高岡義寛
Characterization by transmission electron microscopy and small-angle X-ray scattering of Au clusters formed in ionic liquids
通过透射电子显微镜和小角 X 射线散射对离子液体中形成的金簇进行表征
通过透射电子显微镜和小角 X 射线散射对离子液体中形成的金簇进行表征
DOI：
10.1002/sia.6132
发表时间：
2016
期刊：
Surface and interface analysis
影响因子：
1.7
作者：
[G. H. Takaoka, Y. Matsumoto, M. Takeuchi, H. Ryuto]
通讯作者：
H. Ryuto
液体クラスターイオンビームの遷移金属薄膜への照射効果
液态团簇离子束对过渡金属薄膜的辐照效果
液态团簇离子束对过渡金属薄膜的辐照效果
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[清水友規, 清水大貴, 竹内光明, 龍頭啓充]
通讯作者：
龍頭啓充
Sputtering, oxidation, and photon emission induced by liquid cluster ion collision
液体簇离子碰撞引起的溅射、氧化和光子发射
液体簇离子碰撞引起的溅射、氧化和光子发射
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Ryuto, M. Takeuchi, F. Musumeci, G. H. Takaoka]
通讯作者：
G. H. Takaoka
Sputtering of silicon and glass substrates with polyatomic molecular ion beams generated from ionic liquids
使用离子液体产生的多原子分子离子束溅射硅和玻璃基板
使用离子液体产生的多原子分子离子束溅射硅和玻璃基板
DOI：
10.1116/1.4942996
发表时间：
2016
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. A
影响因子：
--
作者：
[M. Takeuchi, Y. Hoshide, H. Ryuto, G. H. Takaoka]
通讯作者：
G. H. Takaoka
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