Analysis of physiological mechanisms and quantitative trait loci for salinity tolerance related to grain productivity in rice

水稻耐盐性与籽粒生产力相关的生理机制及数量性状位点分析

基本信息

  • 批准号：
    16K07573
  • 负责人：
    Hirai Yoshihiko
  • 金额：
    $ 3.16万
  • 依托单位：
    Okayama University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2016
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）
Cl- More Detrimental Than Na+ in Rice Under Long-Term Saline Conditions
在长期盐碱条件下，Cl- 对水稻的危害比 Na 更大
  • DOI：
    10.5539/jas.v10n10p66
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
    Journal of Agricultural Science
  • 影响因子：
    2
  • 作者：
    Dao Hanh Duy;Hirai Yoshihiko
  • 通讯作者：
    Hirai Yoshihiko
QTL analysis for salt tolerance in rice under long-term salt stress using Koshihikari/IR64 chromosome segment substitution lines and backcross progeny F2 population
利用 Koshihikari/IR64 染色体片段替换系和回交后代 F2 群体进行长期盐胁迫下水稻耐盐性 QTL 分析
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Mai Nguyen Sao;Mai Fukada;Hanh Duy Dao and Yoshihiko Hirai
  • 通讯作者：
    Hanh Duy Dao and Yoshihiko Hirai
Identification and Characterization of Chromosome Regions Associated With Salinity Tolerance in Rice
水稻耐盐性相关染色体区域的鉴定和表征
  • DOI：
    10.5539/jas.v10n11p57
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
    Journal of Agricultural Science
  • 影响因子：
    2
  • 作者：
    Thuy Nguyen Thi Thu;Tokuyasu Misato;Mai Nguyen Sao;Hirai Yoshihiko
  • 通讯作者：
    Hirai Yoshihiko
Identification and characterization of chromosome regions associated with salt tolerance in rice under long-term salt stress using chromosome segment substitution lines derived from Koshihikari and Nona Bokra
使用来自 Koshihikari 和 Nona Bokra 的染色体片段替换系鉴定和表征长期盐胁迫下与水稻耐盐性相关的染色体区域
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Thuy Nguyen Thi Thu;Misato Tokuyasu;Makoto Tsuda and Yoshihiko Hirai
  • 通讯作者：
    Makoto Tsuda and Yoshihiko Hirai
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    Thuy Nguyen Thi Thu;Hirai Yoshihiko;Tsuda Makoto;M.Shahbaz Akhtar
  • 通讯作者：
    M.Shahbaz Akhtar
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  • 发表时间：
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  • 期刊：
    Journal of Photopolymer Science and Technology
  • 影响因子：
    0.8
  • 作者：
    Osumi Tomoaki;Misaka Akio;Sato Kousuke;Yasuda Masaaki;Sasago Masaru;Hirai Yoshihiko
  • 通讯作者：
    Hirai Yoshihiko
Fabrication of Nickel Plasma Etching Mask by Nano-Imprint Lithography and Electroless Plating
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  • DOI：
    10.2494/photopolymer.33.551
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Journal of Photopolymer Science and Technology
  • 影响因子：
    0.8
  • 作者：
    Shimizu Shingo;Tanabe Hideki;Yasuda Masaaki;Hirai Yoshihiko;Kawata Hiroaki
  • 通讯作者：
    Kawata Hiroaki
Computational study of 3-dimensional photo lithography on limitations and possibility for novel structures
3 维光刻计算研究新型结构的局限性和可能性
Automatic design of the build-in lens mask for three-dimensional photo lithography
三维光刻内置镜头掩模的自动设计

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  • 通讯作者：
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  • 资助金额：
    $ 3.16万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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