Building an academic foundation for balancing ultra-high-speed deposition and ultra-low friction of hard carbon-based coatings

为平衡硬碳基涂层的超高速沉积和超低摩擦奠定学术基础

基本信息

  • 批准号：
    16H04256
  • 负责人：
    Kousaka Hiroyuki
  • 金额：
    $ 11.15万
  • 依托单位：
    Gifu University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份：
    2016
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
The University of Texas at Austin(米国)
德克萨斯大学奥斯汀分校（美国）
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
  • 通讯作者：
Si含有DLC成膜用炭化水素プラズマの診断 : プラズマ基礎特性の電力依存性
用于含Si DLC膜形成的碳氢化合物等离子体的诊断：基本等离子体特性的功率依赖性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    大野 祐也 ;永井 雅之 ;小田 昭紀 ;太田 貴之 ;上坂 裕之
  • 通讯作者：
    上坂 裕之
スパッタリングを用いたSi含有DLC膜におけるSi含有量依存性
使用溅射的含硅 DLC 薄膜中的硅含量依赖性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    三輪侑生，小田昭紀;上坂裕之;太田貴之
  • 通讯作者：
    太田貴之
二元スパッタリングで成膜されたSi含有DLC膜のトライボ特性
二元溅射沉积含Si DLC薄膜的摩擦特性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    三輪 侑生;小田 昭紀;上坂 裕之;太田 貴之
  • 通讯作者：
    太田 貴之
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Carbon Film into an 100-um-Diameter Hole under the Assistance of Source Gas Blowing
气吹辅助下等离子增强化学气相沉积碳膜到直径 100 um 的孔中
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Rihito Ota;Hiroyuki Kousaka;Laxminarayan L. Raja;Noritsugu Umehara;Takayuki Tokoroyama;and Motoyuki Murashima
  • 通讯作者：
    and Motoyuki Murashima
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI：
    {{ item.doi }}
  • 发表时间：
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊：
    {{ item.journal_name }}
  • 影响因子：
    {{ item.factor }}
  • 作者：
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Kousaka Hiroyuki其他文献

Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
  • DOI：
    10.1541/ieejfms.142.101
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
    IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
  • 通讯作者：
    Oda Akinori
大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜におけるXe ガスの効果
Xe气体对高功率脉冲磁控溅射类金刚石碳膜形成的影响
  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Hiro Kunieda;Akinori Oda;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki;國枝　滉，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之;武田恵太，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之
  • 通讯作者：
    武田恵太，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之
ダブルパルスターゲット印加電圧を用いた大電力パルスマグネトロンカーボンスパッタリングにおけるイオンの解析
双脉冲靶施加电压高功率脉冲磁控碳溅射中的离子分析
  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Hiro Kunieda;Akinori Oda;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki;國枝　滉，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之
  • 通讯作者：
    國枝　滉，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之
Gas phase diagnostics on high power pulsed magnetron sputtering using double-pulse target-voltage
双脉冲靶电压高功率脉冲磁控溅射气相诊断
  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Hiro Kunieda;Akinori Oda;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki
  • 通讯作者：
    Ohta Takayuki
Gas phase diagnostics on high power pulsed magnetron sputtering using double-pulse target voltage for deposition of diamond like carbon
使用双脉冲靶电压沉积类金刚石碳的高功率脉冲磁控溅射气相诊断
  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Hiro Kunieda;Akinori Oda;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki
  • 通讯作者：
    Ohta Takayuki

Kousaka Hiroyuki的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI：
    {{ item.doi }}
  • 发表时间：
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊：
    {{ item.journal_name }}
  • 影响因子：
    {{ item.factor }}
  • 作者：
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者：
    {{ item.author }}
立即体验
{{ showInfoDetail.title }}

作者：{{ showInfoDetail.author }}

知道了