Building an academic foundation for balancing ultra-high-speed deposition and ultra-low friction of hard carbon-based coatings
Building an academic foundation for balancing ultra-high-speed deposition and ultra-low friction of hard carbon-based coatings
为平衡硬碳基涂层的超高速沉积和超低摩擦奠定学术基础
批准号：
16H04256
负责人：
Kousaka Hiroyuki
金额：
$11.15万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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The University of Texas at Austin(米国)
德克萨斯大学奥斯汀分校（美国）
德克萨斯大学奥斯汀分校（美国）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Si含有DLC成膜用炭化水素プラズマの診断 : プラズマ基礎特性の電力依存性
用于含Si DLC膜形成的碳氢化合物等离子体的诊断：基本等离子体特性的功率依赖性
用于含Si DLC膜形成的碳氢化合物等离子体的诊断：基本等离子体特性的功率依赖性
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[大野 祐也 , 永井 雅之 , 小田 昭紀 , 太田 貴之 , 上坂 裕之]
通讯作者：
上坂 裕之
スパッタリングを用いたSi含有DLC膜におけるSi含有量依存性
使用溅射的含硅 DLC 薄膜中的硅含量依赖性
使用溅射的含硅 DLC 薄膜中的硅含量依赖性
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[三輪侑生，小田昭紀, 上坂裕之, 太田貴之]
通讯作者：
太田貴之
二元スパッタリングで成膜されたSi含有DLC膜のトライボ特性
二元溅射沉积含Si DLC薄膜的摩擦特性
二元溅射沉积含Si DLC薄膜的摩擦特性
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[三輪 侑生, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之]
通讯作者：
太田 貴之
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Carbon Film into an 100-um-Diameter Hole under the Assistance of Source Gas Blowing
气吹辅助下等离子增强化学气相沉积碳膜到直径 100 um 的孔中
气吹辅助下等离子增强化学气相沉积碳膜到直径 100 um 的孔中
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Rihito Ota, Hiroyuki Kousaka, Laxminarayan L. Raja, Noritsugu Umehara, Takayuki Tokoroyama, and Motoyuki Murashima]
通讯作者：
and Motoyuki Murashima
共 89 条