力学刺激に対するトポロジカル応答性を基盤とする新規メカノクロミック材料の創成
力学刺激に対するトポロジカル応答性を基盤とする新規メカノクロミック材料の創成
批准号:
16J03566
负责人:
正井 宏
金额:
$2.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-22 至 2019-03-31
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英文摘要
本研究の目的は、ロタキサンのトポロジカル構造変化を駆使して、力学刺激に対する物性変化を出力可能なセンサ材料を創成することである。本年度は比較的小さなストッパーユニットを軸中に導入することで、応力に対して段階的に作用するラチェットストッパーとしての可能性を開拓した。昨年度に偶然得られた知見に基づき、ベンゼン誘導体を両端に導入したポリエチレングリコール鎖を合成し、この軸に対するαシクロデキストリンのポリロタキサン形成過程を追跡した。この検討を元に、貫通現象における軸の立体的なサイズと活性化エネルギーに関する知見を得ることによって、環状分子のシャトリングにおいて立体的に影響を与えうる軸分子骨格を明らかにすることが期待される。ジメチレンアミン-p-キシレンを両端に導入したポリエチレングリコール鎖に対して、先程と同様に包接及び末端封鎖を行うことでポリロタキサンを合成したところ、その包接率は1-2%と算出され、特異的に働く位置ではわずかな立体が包接率に影響することが示された。反応の収率や精製純度などの点で、未だ問題は多いものの、低包接なポリロタキサンを容易に合成する設計指針を与えるとともに、低包接率に基づく環動ゲルの優れた力学特性の発現が期待される。実際、得られたポリロタキサンは、従来の包接率を有するポリロタキサンに対して両溶媒であったジメチルスルホキシドに対する溶解性が極めて低い。これは分子全体に対する環の割合が低いことで、軸の性質が強く表れたためであり、本材料はこれまでとは異なる物性や材料特性の発現が期待される。
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連結型ロタキサンに基づく機能性被覆型分子ワイヤ
基于连接轮烷的功能性涂层分子线
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Adiba, Amalia I, Ryoto Tange, 原田涼佑・細見拓郎・正井宏・藤原哲晶・辻康之・寺尾潤, 丹下 稜斗, 横山琢矢・正井宏・寺尾潤・藤原哲晶・辻康之, 丹下 稜斗, Hiroshi Masai and Jun Terao, Ryoto Tange, 正井 宏]
通讯作者:
正井 宏
共役ジチオカルボン酸を用いた有機・無機ハイブリッド材料における被覆効果
共轭二硫代羧酸在有机-无机杂化材料中的涂层效果
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Adiba, Amalia I, 丹下 稜斗, 原田涼佑・細見拓郎・正井宏・寺尾潤]
通讯作者:
原田涼佑・細見拓郎・正井宏・寺尾潤
DOI:
10.1021/acs.jpcc.6b08557
发表时间:
2016-11
期刊:
Journal of Physical Chemistry C
影响因子:
3.7
作者:
[Tatsuhiko Ohto;H. Masai;J. Terao;W. Matsuda;S. Seki;Y. Tsuji;H. Tada]
通讯作者:
Tatsuhiko Ohto;H. Masai;J. Terao;W. Matsuda;S. Seki;Y. Tsuji;H. Tada
Kinetic Stabilization of a Ni(II) Bis(dithiobenzoate)-type Complex Achieved Using Three-dimensional Insulation by a [1]Rotaxane Structure
[1]Rotaxane 结构利用三维绝缘实现 Ni(II) 双(二硫代苯甲酸酯)型配合物的动力学稳定性
DOI:
10.1039/c8cc00351c
发表时间:
2018
期刊:
Chem. Commun.
影响因子:
--
作者:
[Takuro Hosomi, Ryosuke Harada, Hiroshi Masai, Tetsuaki Fujihara, Yasushi Tsuji, Jun Terao]
通讯作者:
Jun Terao
被覆型共役メタロワイヤを用いた燐光ガスセンサ材料の開発
使用涂层共轭金属线开发磷光气体传感器材料
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Adiba, Amalia I, Ryoto Tange, 原田涼佑・細見拓郎・正井宏・藤原哲晶・辻康之・寺尾潤, 丹下 稜斗, 横山琢矢・正井宏・寺尾潤・藤原哲晶・辻康之]
通讯作者:
横山琢矢・正井宏・寺尾潤・藤原哲晶・辻康之
共 11 条
光刺激と化学刺激の多重協働活性化を活用した高機能材料群の創成
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批准号:21K05181
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.75万
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财政年份:2021
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负责人:正井 宏
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依托单位:
含金属被覆型分子ワイヤの合成と分子エレクトロニクス素子への応用
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批准号:13J01889
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.73万
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财政年份:2013
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负责人:正井 宏
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依托单位:
海外基金