モノマー界面粘度の増加因子の究明に基づくサブ15nmの光ナノインプリント成形

基于单体界面粘度增加因素研究的亚15纳米光学纳米压印成型

基本信息

  • 批准号:
    16J05484
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-22 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

光ナノインプリント技術は従来の光リソグラフィに代わる新規ナノ加工技術 “More Moore Technology” の一つとして注目されている。我々は最近明らかになってきた固体表面間のナノギャップ中での液体粘度増加現象が光ナノインプリント時にも生じると着想し、光ナノインプリント界面での重合性モノマーの粘度増加に関して表面力・共振ずり測定により研究している。本研究では、次世代ナノ加工技術として注目を集める光ナノインプリント技術によるサブ15nm成形に向けて、ジアクリレートモノマーの界面粘度増加因子の究明とサブ15nm高分子成形体の作製実証に着手してきた。本年度はジアクリレートモノマーの反応性密着層修飾シリカ表面間での粘度増加に関して表面力・共振ずり測定により評価した。アクリロイル基末端を有する密着層間では表面間距離<15nm程度からジアクリレートモノマーの粘度が増加した一方、メタクリロイル基末端の密着層間では表面間距離<12nmから粘度が増大した。表面間距離10nm時の粘度を比較するとアクリロイル基末端密着層間の方がメタクリロイル基末端密着層間に比べて1-2桁高い粘度を示すことを明らかにした。これはモノマーと同種の末端官能基を有する密着層間において表面-モノマー間の相互作用が増加したためと考えた。表面-モノマー間相互作用の増加による界面粘度の増大が示唆された。一般的に、光ナノインプリントにおいて密着層の基板上への修飾は液体の基板上への濡れ性向上や離型時の密着性向上に有利である。一方、サブ15nm成形において残膜厚が薄くなった際には粘度増加によりアライメントを困難にする可能性が示された。
The new processing technology "More Moore Technology" has been introduced in the past. Recently, we have studied the phenomenon of viscosity increase of liquids between solid surfaces, the occurrence of optical properties, the coincidence of optical properties between solid surfaces, and the measurement of surface forces and resonance. This study is aimed at investigating the interfacial viscosity increase factor of 15 nm polymer molded articles by focusing on the next generation of polymer molding technology. This year, the viscosity between the surfaces of the reflective adhesive layer was increased, and the surface force and resonance were measured. The viscosity increases when the distance between the two surfaces is less than 15nm, and when the distance between the two surfaces is less than 12nm. Viscosity comparison at surface distance of 10nm: 1-2 ° C Viscosity comparison at surface distance of 1-2 ° C Viscosity comparison at surface distance The interaction between the terminal functional groups of the same species increases. The increase of interfacial viscosity due to the increase of surface-to-surface interaction indicates that the interfacial viscosity increases. General, light, light, light The possibility of increasing viscosity due to the thin residual film thickness of a square and 15nm is shown.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
反応性密着層修飾シリカ表面間での親油性モノマーのナノ流動性
反应性粘合剂层改性二氧化硅表面之间亲脂性单体的纳米流动性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東駿也;粕谷素洋;栗原和枝;中川勝
  • 通讯作者:
    中川勝
Development of UV-Curable Resins Suitable for Reverse-Tone Lithography for Au Metamaterials Using a Print-and-Imprint Method
使用印刷和压印方法开发适用于金超材料反色调光刻的紫外线固化树脂
Elemental depth profiles and plasma etching rates of positive-tone electron beam resists after sequential infiltration synthesis of alumina
连续渗透合成氧化铝后正电子束抗蚀剂的元素深度分布和等离子体蚀刻速率
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Yuki Ozaki;Shunya Ito;Nobuya Hiroshiba;Takahiro Nakamura;and Masaru Nakagawa
  • 通讯作者:
    and Masaru Nakagawa
低粘度モノマーを介したシリカ表面間に生じる表面力の再現性
通过低粘度单体在二氧化硅表面之间产生的表面力的再现性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東駿也;粕谷素洋;栗原和枝;中川勝
  • 通讯作者:
    中川勝
Increase in viscosity of a low-viscosity monomer in nano-gap between silica surfaces related to UV nanoimprinting
与 UV 纳米压印相关的二氧化硅表面之间的纳米间隙中低粘度单体的粘度增加
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shunya Ito;Motohiro Kasuya;Kazue Kurihara;and Masaru Nakagawa
  • 通讯作者:
    and Masaru Nakagawa
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伊東 駿也其他文献

蛍光顕微鏡観察による位置選択的吸着分子膜表面修飾の評価
荧光显微镜评价区域选择性吸附分子膜表面修饰
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    落合 研斗;伊東 駿也;中村 貴宏;中川 勝
  • 通讯作者:
    中川 勝
反応性無機前駆体ガスの浸透を利用した光ナノインプリントレジスト材料の改質
利用反应性无机前体气体的渗透对光纳米压印抗蚀剂材料进行改性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    上原 卓也;尾﨑 優貴;伊東 駿也;廣芝 伸哉;中村 貴宏;中川 勝
  • 通讯作者:
    中川 勝
光ナノインプリントによる一桁nm造形に向けた重合性モノマーの粘度増加の理解
了解使用光子纳米压印进行个位数纳米建模的可聚合单体的粘度增加
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東 駿也;粕谷 素洋;栗原 和枝;中川 勝
  • 通讯作者:
    中川 勝
トリメチルアルミニウムを用いた3種類の化学気相反応法による光硬化レジストの有機-無機ハイブリッド化の膜厚方向の化学組成解析
使用三甲基铝的三种化学气相反应方法对光固化抗蚀剂的有机-无机杂化的膜厚度方向的化学成分进行分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東 駿也;上原 卓也;尾崎 優貴;中村 貴宏;中川 勝
  • 通讯作者:
    中川 勝
重合性液体のシリカナノ空間中での流動性と一桁ナノ造形
二氧化硅纳米空间中可聚合液体的流动性和个位数纳米加工
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東 駿也;粕谷 素洋;栗原 和枝;中川 勝
  • 通讯作者:
    中川 勝

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ナノ空間で発現する特異な界面粘度を制御した次世代光硬化性液体の創製
创建具有以纳米空间表达的受控独特界面粘度的下一代光固化液体
  • 批准号:
    19K15626
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 0.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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