Development of active molecular device on silicon surface

硅表面活性分子器件的研制

基本信息

  • 批准号:
    17K05055
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
STM Observation of the Si(111) - (7×7) Reconstructed Surface Modified by Excess Phosphorus Doping
过量磷掺杂修饰的Si(111)-(7×7)重构表面的STM观察
Direct Stimulation by Electron Injection into Confined Molecules on the Silicon Surface
通过电子注入硅表面受限分子的直接刺激
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hirulak D. Siriwardena;Masaru Shimomura
  • 通讯作者:
    Masaru Shimomura
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Progress in photoelectron holography at SPring-8
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  • 发表时间:
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    0
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  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Momose Tomohiro;Nakamura Atsushi;Daniel Moraru;Shimomura Masaru;田村優樹・中村篤志
  • 通讯作者:
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    2024
  • 资助金额:
    $ 3万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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  • 资助金额:
    $ 3万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    21H04678
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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知道了