Development of multicharged ion beam assisted processing technology for high-speed etching of titanium micro mold
Development of multicharged ion beam assisted processing technology for high-speed etching of titanium micro mold
钛微模具高速刻蚀多电荷离子束辅助加工技术开发
批准号：
17K06101
负责人：
Asaji Toyohisa
金额：
$3.08万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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デスクトップ型電子サイクロトロン共鳴イオン源用ウィーンフィルタの開発
台式电子回旋共振离子源维恩滤波器的研制
台式电子回旋共振离子源维恩滤波器的研制
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toyohisa Asaji, Hiroya Uyama, Takuro Umetsugu, Tsubasa Nakamura, Takeshi Hitobo and Yushi Kato, 鵜山博也(富山高専)，山崎達瑛(富山高専)，浅地豊久(富山高専)，人母岳(立山マシン(株))，中村翼(大島商船)，加藤裕史(大阪大院)]
通讯作者：
鵜山博也(富山高専)，山崎達瑛(富山高専)，浅地豊久(富山高専)，人母岳(立山マシン(株))，中村翼(大島商船)，加藤裕史(大阪大院)
Development of 1.2-GHz ECR ion source and Wien filter for inexpensive ion beam processing system
开发用于廉价离子束处理系统的 1.2 GHz ECR 离子源和维恩滤波器
开发用于廉价离子束处理系统的 1.2 GHz ECR 离子源和维恩滤波器
DOI：
10.1063/1.5127348
发表时间：
2019
期刊：
Review of Scientific Instruments
影响因子：
1.6
作者：
[Asaji Toyohisa, Uyama Hiroya, Umetsugu Takuro, Nakamura Tsubasa, Hitobo Takeshi, Kato Yushi]
通讯作者：
Kato Yushi
デスクトップ型ECRイオン源におけるイオン生成の高効率化
台式 ECR 离子源中离子发生效率高
台式 ECR 离子源中离子发生效率高
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toyohisa Asaji, Hiroya Uyama, Takuro Umetsugu, Tsubasa Nakamura, Takeshi Hitobo and Yushi Kato, 鵜山博也(富山高専)，山崎達瑛(富山高専)，浅地豊久(富山高専)，人母岳(立山マシン(株))，中村翼(大島商船)，加藤裕史(大阪大院), 山崎 達瑛，鵜山 博也，岡崎 陽大，浅地 豊久，人母 岳，加藤 裕史]
通讯作者：
山崎 達瑛，鵜山 博也，岡崎 陽大，浅地 豊久，人母 岳，加藤 裕史
Synthesis of endohedral fullerenes by using the metal ion beam system with hot-wall plasma chamber
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批准号：26600144
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项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额：$2.5万
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财政年份：2014
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负责人：Asaji Toyohisa
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依托单位：
海外基金
