Metallization of Silk Textile via Supercritical Carbon Dioxide Promoted Electroless Plating for the Applications of Wearable Devices
Metallization of Silk Textile via Supercritical Carbon Dioxide Promoted Electroless Plating for the Applications of Wearable Devices
批准号:
17J07395
负责人:
CHIU WANTING
金额:
$1.22万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-26 至 2019-03-31
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[1. 研究の目的] 次世代のコミュニケーションツール・エナジーハーベスタとして期待されるウェアラブルデバイスは、近年盛んに研究開発が進んでいる。現在実用化されているウェアラブルデバイスの大半は柔軟性に欠ける構造や、生体適合性のない材料などの点で課題があった。本研究では、超臨界二酸化炭素を用いた電気化学方法により、フレキシブル構造であり、かつ生体組織や器官と親和性がある材料を開発した。また、酸化物の修飾により、機能性のあるウェアラブルデバイス(自浄式の材料や発電材料など)を研究し、次世代の多機能性ウェアラブルデバイスへの応用を検討した。[2. 具体的な内容] 本研究では、超臨界二酸化炭素プロセスにより触媒を柔軟性のあるシルクの中に埋め込んでおき、シルクを活性化した。さらに、超臨界二酸化炭素を用いた無電解メッキにより、活性化されたシルクを金属の薄膜を被覆し、本来は導電性のないシルクに導電性を与え、ウェアラブルデバイスの基層材料として使用した。また、陰極析出方法や共沈着方法などを用いて、金属被覆したシルクを酸化物で修飾し、多機能性のウェアラブルデバイス材料を実現した。[3. 研究の意義、重要性] 本研究では、超臨界二酸化炭素を用いた活性化プロセスにより、活性化プロセスに必要であった化学薬品の使用量を大幅に減少し、環境に優しい工程を実現した。また、酸化物の修飾により、多機能性ウェアラブルデバイス材料を実現した。[4. 受賞] (1) Best poster award, Taiwan-Japan Joint Symposium & Nano Engineering and Microsystem Technology Conference; (2) Research Fellow of Japan Society for the Promotion of Science PD
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Design and Development of Fuel Cell Type Gas Sensor with Atomic Au Decorated PANI/Pt Composite
原子Au修饰PANI/Pt复合材料燃料电池型气体传感器的设计与开发
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[P. Chakraborty, Y.-A. Chien, W.-T. Chiu, M. Sone, and T. Nakamoto]
通讯作者:
and T. Nakamoto
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Composite of ZnO/Au Hybrid Structure on Silk Textile for Flexible Photocatalyst Application
丝绸纺织品上ZnO/Au杂化结构的复合材料用于柔性光催化剂应用
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Wan-Ting Chiu, Yuma Tahara, Chun-yi Chen, Tso-fu Mark Chang, Tomoko Hashimoto, Hiromichi Kurosu, Masato Sone]
通讯作者:
Masato Sone
Design and development of novel gas sensor by electrochemical deposition of gold cluster on electrode surface
电极表面电化学沉积金团簇新型气体传感器的设计与开发
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
Conference proceeding of Technical Meeting on Sensors and Micromachines IEE Japan 2018
影响因子:
--
作者:
[P. Chakraborty, W.-T. Chiu, M. Sone, and T. Nakamoto]
通讯作者:
and T. Nakamoto
Novel Metal Electrodeposition and the Application toward MEMS Device
新型金属电沉积及其在MEMS器件中的应用
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[W.-T. Chiu, C.-Y. Chen, T.-F. M. Chang, T. Hashimoto, and H. Kurosu]
通讯作者:
and H. Kurosu
共 10 条
欠陥極少化NiMnGa強磁性形状記憶合金粒子とそれによる高効率磁気冷却材料の開発
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批准号:22K14491
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项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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资助金额:$3.0万
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财政年份:2022
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负责人:CHIU WANTING
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依托单位:
海外基金