積層マイクロインプリントプロセスによるSOFCの高性能化
積層マイクロインプリントプロセスによるSOFCの高性能化
批准号:
18J12174
负责人:
徳丸 和樹
金额:
$1.22万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-25 至 2020-03-31
中文摘要
本年度の研究においては、昨年度までの研究で得られた積層インプリント実験の実験データより、有限要素法を用いた積層インプリントのシミュレーションモデルの作製、また、生体機能表面の模倣への応用に取り組んだ。本研究は被インプリント材料としてセラミックスと熱可塑性樹脂のコンパウンドを用いており、粘弾性を示すため、一般化マクスウェルモデルを用いた有限要素解析を行った。モデル作成に当たっては、実験に使用した材料に対し、圧縮緩和の繰り返しによる粘弾性試験を行い、得られた粘弾性特性をもとにデータフィッティングを行い、一般化マクスウェルモデルの数式を得た。得られた数式をもとに二層コンパウンド材料への積層インプリントの有限要素解析を行ったところ、実験データと同様の積層断面が得られた。積層インプリント法において、積層界面形状は積層構造の性能を左右する重要な要素であるが、積層体を一度にプレス加工するという性質上、積層材量の流動挙動など、材料の性質によって決定されるため、狙い通りの形状を得ることが困難であった。この積層インプリント法のシミュレーションを行うことにより、積層界面形状の予測が容易になり、界面形状のコントロールを行いやすくなると考えられる。また、積層インプリント法の応用として、生体機能表面の模倣にも取り組んだ。一般のインプリント加工において、モールドから成形体を取り外す工程が必要なため、パターン形状に制約があった。本研究ではより自由なパターン形状を得るために、一度作製されたパターン上に保護層を付与し、保護層の上から再度加工を行うことで、オーバーハング形状やアスペクト比3以上の高アスペクトパターンの作製を目指した。これに加え、加工後に横方向への圧縮を加えることで、パターンのアスペクト比を約2倍にすることに成功した。保護層を用いた積層インプリントにより、パターンの複雑化が可能になると考えられる。
英文摘要
本年度の研究においては、昨年度までの研究で得られた積層インプリント実験の実験データより、有限要素法を用いた積層インプリントのシミュレーションモデルの作製、また、生体機能表面の模倣への応用に取り組んだ。本研究は被インプリント材料としてセラミックスと熱可塑性樹脂のコンパウンドを用いており、粘弾性を示すため、一般化マクスウェルモデルを用いた有限要素解析を行った。モデル作成に当たっては、実験に使用した材料に対し、圧縮緩和の繰り返しによる粘弾性試験を行い、得られた粘弾性特性をもとにデータフィッティングを行い、一般化マクスウェルモデルの数式を得た。得られた数式をもとに二層コンパウンド材料への積層インプリントの有限要素解析を行ったところ、実験データと同様の積層断面が得られた。積層インプリント法において、積層界面形状は積層構造の性能を左右する重要な要素であるが、積層体を一度にプレス加工するという性質上、積層材量の流動挙動など、材料の性質によって決定されるため、狙い通りの形状を得ることが困難であった。この積層インプリント法のシミュレーションを行うことにより、積層界面形状の予測が容易になり、界面形状のコントロールを行いやすくなると考えられる。また、積層インプリント法の応用として、生体機能表面の模倣にも取り組んだ。一般のインプリント加工において、モールドから成形体を取り外す工程が必要なため、パターン形状に制約があった。本研究ではより自由なパターン形状を得るために、一度作製されたパターン上に保護層を付与し、保護層の上から再度加工を行うことで、オーバーハング形状やアスペクト比3以上の高アスペクトパターンの作製を目指した。これに加え、加工後に横方向への圧縮を加えることで、パターンのアスペクト比を約2倍にすることに成功した。保護層を用いた積層インプリントにより、パターンの複雑化が可能になると考えられる。
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SOFC電極電解質積層材料のインプリント加工における微細界面形状の制御
SOFC电极电解质层压材料压印加工中微界面形状的控制
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[徳丸和樹, 津守不二夫]
通讯作者:
津守不二夫
DOI:
10.35848/1347-4065/ab79ef
发表时间:
2020-06-01
期刊:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子:
1.5
作者:
[Miyata, Tsuyoshi, Tokumaru, Kazuki, Tsumori, Fujio]
通讯作者:
Tsumori, Fujio
Interfacial pattern changes of imprinted multilayered material in milli- and microscales
压印多层材料在毫米级和微米级的界面图案变化
DOI:
10.7567/jjap.57.06hg05
发表时间:
2018
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Yonekura Kazuhiro, Tokumaru Kazuki, Tsumori Fujio]
通讯作者:
Tsumori Fujio
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kazuki Tokumaru, Kazuhiro Yonekura, and Fujio Tsumori]
通讯作者:
and Fujio Tsumori
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kazuki Tokumaru, Simon Hunt, Fujio Tsumori]
通讯作者:
Fujio Tsumori
共 11 条
遊星式スピンコータにおける基板上材料挙動の解明による高度な膜組織制御法の開発
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批准号:22K14515
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项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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资助金额:$2.91万
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财政年份:2022
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负责人:徳丸 和樹
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依托单位:
海外基金