光コムのオフセット周波数を用いた偏光状態の精密計測

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キャリアエンベロープオフセット周波数差を用いた偏光状態の計測を検証するために、偏波多重・ゲイン媒質共有タイプの偏波保持型デュアルコムレーザーを開発した。偏波間の残留クロストークの影響を調べるため、モード同期の再現性、レーザーの相対強度雑音、繰り返し周波数の位相雑音を測定した。その結果、モード同期の再現性は高く、繰り返し周波数の位相雑音は、シングルコム動作時と同等で十分に小さいことが確認された。一方で、強度雑音パワースペクトル密度には、2つのモード同期の繰り返し周波数の差周波数（100 kHz前後）とその高調波に相当する周波数に鋭いノイズピーク（-90 dB/Hzから-100 dB/Hz程度）が観測された。このような偏波多重・ゲイン媒質共有型の特性をまとめ、論文として投稿した。偏波多重・ゲイン媒質共有型は強度雑音が大きいため、機械共有型の偏波保持型デュアルコムレーザーに切り替えて製作を進めている。2つの光コムの特性が可能な限り揃うような工夫を盛り込み、オフセット周波数検出とオフセット周波数差を用いた偏光計測を進める。