Novel group-IV nitride films by reactive sputtering as potential nonlinear optical materials in Si photonics

反应溅射新型 IV 族氮化物薄膜作为硅光子学中潜在的非线性光学材料

基本信息

  • 批准号：
    23K03941
  • 负责人：
    PiedraLorenzana JoseAlberto
  • 金额：
    $ 2.91万
  • 依托单位：
    Toyohashi University of Technology
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2023
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2023-04-01 至 2026-03-31
  • 项目状态：
    未结题

项目摘要

项目成果

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