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シリコン表面における初期酸化過程の解明
阐明硅表面的初始氧化过程
基本信息
- 批准号：97J01579
- 负责人：
- 金额：$ 1.15万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份：1998
- 资助国家：日本
- 起止时间：1998 至 1999
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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大毛利 健治其他文献
酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶のフォノン分散関係に格子歪が及ぼす影響
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- 影响因子：0
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- DOI：
- 发表时间：
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
図師 知文;志村 昂亮;大毛利 健治;山田 啓作 ;渡邉 孝信;土門武，石塚智史，秋山了太，金澤研，黒田眞司;渡邉孝信;及川晴義，秋山了太，百瀬峻，黒田眞司;志村昂亮，栗山亮，橋口誠広，高橋隆介，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信 - 通讯作者：
志村昂亮，栗山亮，橋口誠広，高橋隆介，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信
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