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レーザーアブレーション法とレーザー分子線エピタキシー法による薄膜形成

レーザーアブレーション法とレーザー分子線エピタキシー法による薄膜形成
通过激光烧蚀法和激光分子束外延法形成薄膜
批准号：
97F00512
负责人：
川合 知二
金额：
$0.77万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
1998
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1998 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-97F00512/
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ナノチャネル電極デバイスによる長鎖DNAのエピジェネティック物性の超高速検出
  • 批准号：
    25246014
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额：
    $29.62万
  • 财政年份：
    2013
  • 负责人：
    川合 知二
  • 依托单位：
    Osaka University
パルスレーザデポジション法による酸化物薄膜成長機構解明と機能性材料創成への展開
  • 批准号：
    06F06706
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.54万
  • 财政年份：
    2006
  • 负责人：
    川合 知二
  • 依托单位：
    Osaka University
レーザーアブレーション法による新規強誘電体薄膜材料の創成
  • 批准号：
    03F03739
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.77万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    川合 知二
  • 依托单位：
    Osaka University
レーザーアプレーション法による新規強誘電体薄膜材料の創成
  • 批准号：
    03F00739
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.77万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    川合 知二
  • 依托单位：
    Osaka University