界面和周波発生法を用いた酸化物表面上の吸着種の光反応の追跡

使用界面和频生成方法跟踪氧化物表面吸附物质的光反应

• 批准号: 08740453
• 负责人: 久保田 純
• 金额: $ 0.64万
• 依托单位: Tokyo Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1996
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1996 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08740453/
• 关键词: 界面和周波発生法; 赤外反映吸収分光法; 光反応; 酸化物薄膜表面; 酸化ニッケル; ギ酸; 一酸化炭素; 一酸化窒素

界面和周波発生法と赤外反射吸収分光法を用いニッケル単結晶表面を酸化して得られた酸化ニッケル単結晶表面に吸着したギ酸、一酸化炭素、一酸化窒素などの小分子の吸着構造、熱分解反応を調べた。また紫外光を励起光とした光脱離反応についても検討し、紫外パルス光をポンプ光とし界面和周波発生法によって表面をプローブする紫外励起過渡和周波発生スペクトルの測定を試み、紫外光照射によって表面分子の振動状態が励起されることを見出した。酸化ニッケル(NiO(111))表面に吸着したギ酸はフォルメート(ギ酸イオン)種として解離していることが赤外吸収スペクトルの解析により明らかになった。この吸着種はこの酸化ニッケル表面では表面に傾いて吸着していることが赤外選択則から解明された。このフォルメート種は昇温すると水素と二酸化炭素、もしくは水と一酸化炭素に分解するが、各々の反応経路の詳細についても明らかにした。酸化ニッケル表面は紫外光照射により光反応を起こせることが知られているが、ギ酸は紫外光照射しても光反応は起こさないことがわかった。酸化ニッケル表面に吸着した一酸化炭素、一酸化窒素は紫外光照射により光脱離反応することが知られている。赤外反射吸収分光法と高圧水銀ランプを用いこれらの光脱離反応を検討したところ、吸着サイトの違いによって量子収率に差異があることがわかった。ピコ秒YAGレーザーから得られる紫外パルス光によって励起された一酸化炭素吸着表面を同時に界面和周波発生法で観察すると、C-O伸縮振動が励起されていることが明らかになった。これは紫外光照射により電子励起された分子が緩和して、電子基底状態の高い振動順位にいるものと考察された。

Interface and frequency 発 body と red outside the reflection 収 absorption spectrometry を with い ニ ッ ケ ル 単 crystal surface を acidification し て have ら れ た acidification ニ ッ ケ ル 単 に crystal surface sorption し た ギ acid acidification, acidification, carbon, smothering element な ど の small molecule の sorption structure, thermal decomposition 応 を adjustable べ た. ま た ultraviolet を wound up light と し た light from the 応 に つ い て も beg し 検, ultraviolet パ ル ス light を ポ ン プ light と し interface and the frequency 発 body に よ っ て surface を プ ロ ー ブ す る ultraviolet excitation on the transition and frequency 発 ス ペ ク ト ル の determination を み, uv irradiation に よ っ て surface molecular vibration が の wound up さ れ る こ と を shows し た. Acidification ニ ッ ケ ル (NiO) (111) surface に sorption し た ギ acid は フ ォ ル メ ー ト (ギ acid イ オ ン) kind of と し て dissociation し て い る こ と が red outside suck 収 ス ペ ク ト ル の parsing に よ り Ming ら か に な っ た. こ の sorption of は こ の acidification ニ ッ ケ ル surface で は surface に pour い て sorption し て い る こ と が outside of red sentaku か ら interpret さ れ た. こ の フ ォ ル メ ー ト kind は warming す る と water element と acidification carbon, も し く は water と acidification carbon decomposition す に る が, various 々 の anti 応 経 road の detailed に つ い て も Ming ら か に し た. Acidification ニ ッ ケ ル surface ultraviolet light は に よ り light anti 応 を up こ せ る こ と が know ら れ て い る が ultraviolet light, ギ acid は し て も light anti 応 は up こ さ な い こ と が わ か っ た. Acidification ニ ッ ケ に ル surface sorption し た acidification acidification carbon, smothering element は uv-irradiation に よ り light from the 応 す る こ と が know ら れ て い る. High red outside reflection 収 absorption spectrometry と 圧 mercury ラ ン プ を with い こ れ ら の light from the 応 を beg し 検 た と こ ろ, sorption サ イ ト の violations い に よ っ て に difference between quantum 収 が あ る こ と が わ か っ た. ピ コ seconds YAG レ ー ザ ー か ら have ら れ る ultraviolet パ ル ス light に よ っ て wound up さ れ た a acidification carbon surface sorption を に interface at the same time and the frequency 発 body で す was 観 る と, C - O stretching vibration が wound up さ れ て い る こ と が Ming ら か に な っ た. Ultraviolet light こ れ は に よ り electronic wound up さ れ た molecular が ease し て, electronic basal state の high い vibration pick に い る も の と investigation さ れ た.

项目成果

Athula Bandara: "Adsorption and decomposition of formic acid on NiO(111)-p(2x2)surface:TPD and steady state kinetics studies" Surface Sci.364. L580-L586 (1996)

Athula Bandara：“甲酸在 NiO(111)-p(2x2) 表面上的吸附和分解：TPD 和稳态动力学研究”Surface Sci.364。

Athula Bandara: "Adsorption and reactions of formic acid on(2x2)-NiO(111)/Ni(111)surface:Part I TPD and IRAS studies under ultrahigh vacuum condidions" J.Phys.Chem.100. 14962-14968 (1996)

Athula Bandara：“甲酸在(2x2)-NiO(111)/Ni(111)表面上的吸附和反应：超高真空条件下的第一部分TPD和IRAS研究”J.Phys.Chem.100。

Athula Bandara: "Adsorption and reactions of formic acid on(2x2)-NiO(111)/Ni(111)surface:Part II JRAS study under catalytic steady-state condidions" J.Phys.Chem.101. 361-368 (1996)

Athula Bandara：“甲酸在(2x2)-NiO(111)/Ni(111)表面上的吸附和反应：催化稳态条件下的第二部分JRAS研究”J.Phys.Chem.101。

Jun Kubota: "IRAS study of formic acid decomposition on NiO(111)/Ni(111)surface:comparison of vacuum and catalytic conditions" Surface Sci.368. 361-365 (1996)

Jun Kubota：“NiO(111)/Ni(111)表面上甲酸分解的 IRAS 研究：真空和催化条件的比较”Surface Sci.368。