课题基金 / 基金详情

超高温光散乱特性によるガラスの究極の透過率の研究

超高温光散乱特性によるガラスの究極の透過率の研究
利用超高温光散射特性研究玻璃的极限透过率
批准号:
08740255
负责人:
斎藤 和也
金额:
$0.64万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1996
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1996 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
光ファイバの伝送損失の低減化は、主にガラス中に残存している遷移金属やOH基の除去により達成され、一般には可能な極限値に近い透過率に到達したと考えられている。しかし、損失の最大の原因となるレーリー散乱に関する研究は驚くほど少ない。本研究では、現在の石英ファイバを越える、より透明なガラス材料の開発を目的とし、ガラスの光散乱の起因を再検討した。3つの疑問点から研究をスタートし、以下の成果を得た。1。ガラス転移点で完全に密度揺らぎは凍結するのか?微量な不純物を含む場合、ガラス転移点以下の広い温度領域で凍結した密度揺らぎの構造緩和が起こることを明らかにした。この現象を利用して、石英ガラスにNaを10wt.p.p.m添加し、光散乱強度を13%低減化させることに成功した。2。等温圧縮率はシリカガラスの特異性を反映しているか?等温圧縮率はシリカ結晶の融点で急激な変化を示し、また、過冷却液体の状態でほぼ一定値を示すことを明らかにした。これらの結果は、シリカガラスが微結晶領域でできていることを強く示唆するものである。3。光散乱の原因は密度揺らぎだけなのか?異方性およびクラスターによる光散乱も存在すること、さらに、異方性は過冷却液体でほぼ一定であることを明らかにした。これらの結果は、2の結果とともに、さらに大きな透過率をもつガラスが創製可能であることを示唆するものである。
英文摘要
光ファイバの伝送損失の低減化は、主にガラス中に残存している遷移金属やOH基の除去により達成され、一般には可能な極限値に近い透過率に到達したと考えられている。しかし、損失の最大の原因となるレーリー散乱に関する研究は驚くほど少ない。本研究では、現在の石英ファイバを越える、より透明なガラス材料の開発を目的とし、ガラスの光散乱の起因を再検討した。3つの疑問点から研究をスタートし、以下の成果を得た。1。ガラス転移点で完全に密度揺らぎは凍結するのか?微量な不純物を含む場合、ガラス転移点以下の広い温度領域で凍結した密度揺らぎの構造緩和が起こることを明らかにした。この現象を利用して、石英ガラスにNaを10wt.p.p.m添加し、光散乱強度を13%低減化させることに成功した。2。等温圧縮率はシリカガラスの特異性を反映しているか?等温圧縮率はシリカ結晶の融点で急激な変化を示し、また、過冷却液体の状態でほぼ一定値を示すことを明らかにした。これらの結果は、シリカガラスが微結晶領域でできていることを強く示唆するものである。3。光散乱の原因は密度揺らぎだけなのか?異方性およびクラスターによる光散乱も存在すること、さらに、異方性は過冷却液体でほぼ一定であることを明らかにした。これらの結果は、2の結果とともに、さらに大きな透過率をもつガラスが創製可能であることを示唆するものである。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
K.Saito: "Atructural Relaxation of the Frozen-in Density Fluctuations in SilicaGlass" Progress of Theoretical Physics. (印刷中). (1997)
K. Saito:“二氧化硅玻璃中冻结密度波动的结构弛豫”理论物理学进展(正在出版)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
K.Saito: "A New Method of Developing Ultralow-loss Glasses" Journal of Applied Physics. (印刷中). (1997)
K. Saito:“开发超低损耗玻璃的新方法”《应用物理学杂志》(出版中)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
嚥下運動の調節機構に関する基礎的研究
  • 批准号:
    11770970
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $1.41万
  • 财政年份:
    1999
  • 负责人:
    斎藤 和也
  • 依托单位:
シリカガラスにおけるエキシマレーザー支援構造緩和
  • 批准号:
    11750595
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $1.47万
  • 财政年份:
    1999
  • 负责人:
    斎藤 和也
  • 依托单位:
海外基金